--- title: "【至纯科技】半导体制程设备 14nm-7nm 订单交付,芯片良率提升核心环节" type: "Topics" locale: "en" url: "https://longbridge.com/en/topics/9683305.md" description: "半导体制程设备龙头地位稳固,深度受益华为、中芯扩产。" datetime: "2023-09-06T07:53:24.000Z" locales: - [en](https://longbridge.com/en/topics/9683305.md) - [zh-CN](https://longbridge.com/zh-CN/topics/9683305.md) - [zh-HK](https://longbridge.com/zh-HK/topics/9683305.md) author: "[Williamhqs9](https://longbridge.com/en/profiles/9921172.md)" --- > Supported Languages: [简体中文](https://longbridge.com/zh-CN/topics/9683305.md) | [繁體中文](https://longbridge.com/zh-HK/topics/9683305.md) # 【至纯科技】半导体制程设备 14nm-7nm 订单交付,芯片良率提升核心环节 【至纯科技】(603690)半导体制程设备 14nm-7nm 订单交付,芯片良率提升核心环节 半导体制程设备龙头地位稳固,深度受益华为、中芯扩产。公司系统集成及支持设备国内龙头地位稳固,核心客户均为行业一线用户如中芯国际、华虹、华力、华为、长江存储、合肥长鑫等,2023 年一季度,公司新增订单 21 亿元,在手订单保持高增长。H 扩产清洗设备最受益标的,2023 年订单目标 55 亿(半导体设备 20 亿 )。  芯片良率提升重要环节。公司采用国际主流清洗技术 Nano Spray,实现芯片良率大幅提升,此前日韩掌控 95% 的市场占有率。  14nm-7nm 设备验证重大突破。近期公司已经完成 14nm-7nm 设备 7 台订单交付(量价增长 30% 以上),率先突破 14nm 及以下制程的湿法设备的研发。公司具备 28nm 及以上湿法去胶、刻蚀、清洗、刷洗等湿法工艺全系列的设备研发生产能力,覆盖先进制程逻辑电路、高密度存储、化合物半导体特色工艺等多个细分领域。  日本半导体设备出口限制三季度开始实施,湿法清洗设备加速国产替代,借此公司预计市占率将达到 70%。  公司产品延伸至光伏、面板等泛半导体领域,持续拓宽产品线。光伏领域已获得 N 型电池产线湿法生产设备,已经与头部企业隆基、通威、润阳、晶科等实现对接供货。