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title: "新型光刻胶制备方法开发成功 光刻胶相关公司梳理"
type: "News"
locale: "zh-CN"
url: "https://longbridge.com/zh-CN/news/259140816.md"
description: "华东理工大学与约翰霍普金斯大学的国际合作团队开发了一种新型光刻胶制备方法，利用间歇性旋涂化学液相沉积技术，实现了薄膜的可控沉积速率和厚度。该研究对先进光刻工艺具有重要意义，并已在《自然—化学工程》上发表。A 股市场上涉及半导体光刻胶业务的公司包括上海新阳、南大光电、聚光科技等 20 家。"
datetime: "2025-09-27T04:19:32.000Z"
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# 新型光刻胶制备方法开发成功 光刻胶相关公司梳理

据中国化工报，华东理工大学副教授庄黎伟、美国约翰霍普金斯大学教授迈克尔·萨帕希斯领衔的国际合作团队，提出了一种间歇性旋涂化学液相沉积制备非晶态沸石咪唑酯骨架薄膜的方法，实现了薄膜沉积速率和厚度的可控，并进行了电子束光刻和超越极紫外光刻验证。相关研究近日发表于《自然—化学工程》。据介绍，近年来，aZIF 薄膜被用作先进光刻胶。实现 aZIF 薄膜的大面积、高精度可控制备，对相关领域的先进光刻工艺具有重要意义。在前期基于超稀释前驱体溶液赋能化学液相沉积法制备 aZIF 薄膜策略的基础上，研究团队提出了制备 aZIF 薄膜的新方法。根据公司经营业务以及自身在投资者关系互动平台的披露，A 股市场布局半导体光刻胶业务的公司有上海新阳、南大光电、聚光科技等 20 家，这些公司中既有属于半导体产业链上下游公司，也有公司的子公司或参股公司参与半导体光刻胶业务。

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