<p>亚舍立科技将参加于 2025 年 12 月 17 日至 19 日在日本东京 Big Sight 举办的 SEMICON Japan。该公司将在 2 号展厅 2655 号展位展示其最新的离子注入技术。特别活动包括在 12 月 18 日 15:30 至 15:50 于 5 号展厅 TechSPOT 进行的关于下一代功率器件创新离子注入解决方案的演讲，以及在 12 月 18 日 16:00 至 17:00 于 2655 号展位举行的欢乐时光庆祝活动。免责声明：本新闻简报由公共技术公司（PUBT）使用生成性人工智能创建。虽然 PUBT 努力提供准确和及时的信息，但此 AI 生成的内容仅供参考，不应被解读为财务、投资或法律建议。亚舍立科技于 2025 年 12 月 10 日通过 PR Newswire（参考 ID：NE42004）发布了用于生成本新闻简报的原始内容，并对此信息的准确性承担全部责任。© 版权 2025 - 公共技术公司（PUBT）</p>

亚舍立科技

<p>Axcelis Technologies Inc. 将于 2025 年 12 月 17 日至 19 日在东京的 SEMICON Japan 展会上展示其先进的离子注入解决方案。亮点包括关于下一代功率器件创新解决方案的演讲和欢乐时光庆祝活动。该活动为信息性活动，不构成财务建议。原始内容由 Axcelis 通过 PR Newswire 发布</p>

<p>Axcelis Technologies Inc. will participate in SEMICON Japan 2025, taking place from December 17 to 19 at Tokyo Big Sight in Tokyo, Japan. The company will showcase its latest ion implant technologies at Hall 2, Booth #2655. Special events include a presentation on innovative ion implant solutions for next-generation power devices at TechSPOT, Hall 5, on December 18 from 15:30 to 15:50, and a Happy Hour Celebration at Booth #2655 on December 18 from 16:00 to 17:00. Disclaimer: This news brief was created by Public Technologies (PUBT) using generative artificial intelligence. While PUBT strives to provide accurate and timely information, this AI-generated content is for informational purposes only and should not be interpreted as financial, investment, or legal advice. Axcelis Technologies Inc. published the original content used to generate this news brief via PR Newswire (Ref. ID: NE42004) on December 10, 2025, and is solely responsible for the information contained therein. © Copyright 2025 - Public Technologies (PUBT)</p>
<div class="lb-trans"><p>亚舍立科技将参加于 2025 年 12 月 17 日至 19 日在日本东京 Big Sight 举办的 SEMICON Japan。该公司将在 2 号展厅 2655 号展位展示其最新的离子注入技术。特别活动包括在 12 月 18 日 15:30 至 15:50 于 5 号展厅 TechSPOT 进行的关于下一代功率器件创新离子注入解决方案的演讲，以及在 12 月 18 日 16:00 至 17:00 于 2655 号展位举行的欢乐时光庆祝活动。免责声明：本新闻简报由公共技术公司（PUBT）使用生成性人工智能创建。虽然 PUBT 努力提供准确和及时的信息，但此 AI 生成的内容仅供参考，不应被解读为财务、投资或法律建议。亚舍立科技于 2025 年 12 月 10 日通过 PR Newswire（参考 ID：NE42004）发布了用于生成本新闻简报的原始内容，并对此信息的准确性承担全部责任。© 版权 2025 - 公共技术公司（PUBT）</p>
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亚舍立科技在 SEMICON Japan 展示其先进的离子注入解决方案