--- title: "中國光刻膠，該如何突圍？" description: "中國光刻膠行業正在努力打破國際壟斷，儘管取得了顯著進展，但與日本相比仍存在較大差距。光刻膠是芯片製造的關鍵材料，廣泛應用於顯示面板、集成電路等領域。中國政府自 “十二五” 以來積極支持光刻膠的國產化，力求提升技術水平和市場競爭力。" type: "news" locale: "zh-HK" url: "https://longbridge.com/zh-HK/news/217597279.md" published_at: "2024-10-23T08:11:23.000Z" --- # 中國光刻膠，該如何突圍？ > 中國光刻膠行業正在努力打破國際壟斷，儘管取得了顯著進展，但與日本相比仍存在較大差距。光刻膠是芯片製造的關鍵材料，廣泛應用於顯示面板、集成電路等領域。中國政府自 “十二五” 以來積極支持光刻膠的國產化，力求提升技術水平和市場競爭力。 光刻膠，是芯片製造的關鍵材料。 為了打破國際壟斷，中國企業全力攻關，進步確實很大。 但是，與日本相比，中國光刻膠仍然有很大的差距。 到底差在哪裏？ 中國企業又該如何突圍？ 一、光刻膠國產化 光刻膠，顧名思義，就是光刻機在光刻過程中使用的聚合物薄膜材料，英文直譯過來是光致抗蝕劑，能在紫外光、電子束、離子束、X 射線等照射或輻射下，發生聚合或解聚反應，把圖案留在硅片上。 光刻膠工作原理 我們平常説的光刻膠，其實是一類產品的統稱。 按形成的圖像來分，有正性和負性兩大類。按曝光光源和輻射源的不同就分得更細了，可分為紫外光刻膠、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。 光刻完成後的晶圓片 每類都有前面説的正負性之分，品種規格很多，非常複雜，對應的配方和生產技術也簡單不了，但總體上都包括三種成分：感光樹脂、增感劑和溶劑。 光刻膠的使用範圍相當廣，顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形的加工作業都用得到，下游產品從智能手機的處理器到醫療設備的傳感器，再到航天器的控制系統……無所不包。 尤其是對於精密製造和小型化設備的生產，光刻膠更是至關重要。 光刻膠是智能裝備必不可少的源頭精細化工品，其性能直接影響到終端產品的產能和質量。 光刻膠的市場規模基本約等於智能裝備的製造能力，它的研發和改進也是半導體技術水平的關鍵指標。 正是意識到光刻膠的重要性，近二十年來，我國一直非常重視光刻膠行業的發展，積極給予政策支持，力爭實現國產化。 早在 “十二五” 期間列出的 16 個國家科技重大專項，《極大規模集成電路製造裝備及成套工藝》位列第二，號稱 “02 專項”。 《極大規模集成電路製造裝備及成套工藝》列入國家科技重大專項 十年過去，“02 專項” 結出碩果。 2020 年底，南大光電發佈公告，稱其控股子公司 “寧波南大光電” 自主研發的 ArF 光刻膠產品成功通過客户的使用認證，“本次認證選擇客户 50nm 閃存產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的 ArF 光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。” 超高精細光刻膠項目在 2018 年 5 月通過了 02 專項驗收，2019 年底，以研發團隊為技術骨幹的國科天驥公司在濱州成立，進行高檔光刻膠及其相關有機濕電子化學品的小批量生產。 2021 年，國科天驥在濱州生產園區試生產高檔光刻膠。 新聞報道 徐州博康已成功開發 ArF/KrF 單體及光刻膠、I 線光刻膠、封裝光刻膠、電子束光刻膠等系列產品。 最近，武漢太紫微光電科技有限公司推出的 T150 A 光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計。 目前，國內已有數十家企業涉足光刻膠領域，在短短几年內提高了光刻膠的國產化率，市場產值也快速增長。 比如，PCB 光刻膠，國產率達到了 63%，濕膜及阻焊油墨基本能實現自給； LCD 光刻膠領域，觸控屏光刻膠正逐步實現國產化替代，目前國產率能到三到四成。 光刻膠國產化，進步確實很大。 二、與日本的差距 看到進步，更要看到差距。 從規模上看，2023 年國內光刻膠市場規模約為 121 億元，預計未來 5 年均複合增長率 10%，增長率超過全球平均水平，但規模佔比在全球不到兩成。 **從類別看，我國光刻膠在高端領域國產化率極低。**像是 7nm 技術所需的最高端的 EUV 光刻膠，國產化率樂觀估計也不足 1%。 對比日本，差距尤為突出。 **全球五大光刻膠生產商中，日企獨佔四家**，JSR、東京應化、信越化學及富士膠片拿下全球超 70% 的光刻膠市場。 特別是在最高端的 ArF 和 EUV 領域，日企市場佔有率超過 90%！ 日本光刻膠的國際市場份額（2022 年） 不僅是市場份額，日企在光刻膠領域的專利申請量和技術水平在全世界也是遙遙領先。 根據 2021 年 9 月的數據，日本光刻膠專利申請量佔全球該領域專利數量的 46%，一家獨大，排名第二的是美國，佔 25%。 中國則僅以 7% 的佔比，排在韓國之後，排名全球第四。 **2023 年，全球共有 5483 件光刻膠專利，日本獨佔 63%。** 應該説，在光刻膠領域，中國企業與日企的差距是全方位的。 那麼，日本的光刻膠企業為什麼這麼強？ 網上有很多文章解答過，大多是從起步較早、政府支持、人才培養等角度分析。 這裏，正解局不再面面俱到，而是提供一個觀察的視角： 壁壘。 簡單來説，**日本光刻膠企業先建立了技術壁壘，再建立了行業壁壘，最後建立了產業壁壘。** 先看技術壁壘。 早在 1960 年代，日本就組織技術攻關，實現了光刻膠的知識產權自有——東京應化於 1968 年研發出首個環化橡膠系光刻膠產品 MOR-81。 到 1970 年代，日本光刻膠已陸續完成商業化，幾大巨頭掌握核心技術。 1990 年代開始，繼續突破高端技術，初步構建技術壁壘。 日企光刻膠技術發展時間線 再看行業壁壘。 日本企業背後，大多有財團的影子。 化工領域更是日本財團重點佈局的行業。財團之間，關係複雜，並非是完全的競爭關係。 表面看上去，日本幾大光刻膠龍頭企業各自獨立。實際上，在不同細分領域側重不同，抱團合作，形成行業壁壘。 最後看產業壁壘。 光刻膠是關鍵行業的關鍵材料，一旦使用，輕易不會更換。 日本光刻膠企業在晶圓生產的初期就介入進來，聯合研發，開發出適配於晶圓廠專門要求的光刻膠。 後續實現生產，光刻膠跟晶圓廠的光刻機和生產條件高度匹配，專品專用，不可替代。 這樣一來，除非有巨大的不可抗力，晶圓廠不想也不敢換掉日本企業的光刻膠。 日本光刻膠企業與下游晶圓廠深度合作，嵌入其全產業生態中，構建起牢不可破的產業壁壘，讓自己的霸主地位極為穩固。 三、產業鏈突破 中國想要在光刻膠領域掌握主動，打破壟斷，要走的路還很遠。 首先還是要加大研發攻關，掌握核心技術。 光刻膠本身複雜產線的行業性質，為打破壟斷，縮短與日企的差距，我國企業的研發是多向發力，多點開花。 最高端的 EUV 光刻膠主要有兩種類型，一種是化學放大型，另一種是金屬氧化物。 今年 4 月，湖北九峯山實驗室與華中科技大學的聯合研究團隊成功突破了 “雙非離子型光酸協同增強響應的化學放大光刻膠” 技術。 研究團隊發表的論文 這種光刻膠能在曝光後產生更多酸，從而提高成像質量，減小線寬粗糙度，以更高靈敏度和分辨率來適應更先進更復雜的集成電路製造工藝。 在新型光刻膠的研發領域，我國科研團隊也在攻關。 目前最頂級的 EUV 光刻機中，光刻膠的技術難度之一就是普遍對光源的敏感度不足，這不僅制約了產量，也推高了光刻機及其配套光源的製造難度和成本。 去年 10 月，我國清華大學與浙江大學的聯合團隊全球首次提出了 “點擊光刻” 新方法，併成功開發出與之匹配的超高感光度光刻膠樣品。 團隊發表的論文 這種新型的光刻膠材料，能在極低曝光劑量下實現高對比度成像，大大降低了光刻曝光劑量，提高光刻效率。 其次，光刻膠技術儘快產業化。 光刻膠行不行，技術突破只是一個方面，不能只看專利和論文，最終還是要看落地到產業的情況。 除了前面提到的南大光電和國科天驥等企業之外，中國的光刻膠企業還有不少。在 A 股，目前有約 20 只光刻膠相關的股票，代表着中國光刻膠領域的中堅力量。 最後，要建立光刻膠的產業生態。 除了技術突破和產業化，分析日本的經驗可知，更重要的是形成自己的產業生態體系——一定要與下游企業深度合作。 説得直接點，就是要有自己的光刻機。 就像大飛機產業鏈，只有中國自己能造大飛機，能賣大飛機，國產的大飛機零部件才有用武之地，相關的上游產業才能蓬勃發展。 否則，僅有技術是沒用的，只能白白拿着技術，轉化不出來，慢慢過時落伍被淘汰。 造出自己的光刻機，恰恰是最難的。 全球光刻機行業，幾乎是美日企業的天下。荷蘭阿斯麥 ASML 供給了全球 92% 的高端光刻機。 半導體制造設備市場份額 圖片來源：日經中文網 目前，我國光刻機的國產化率不足 3%，2023 年進口光刻機數量高達 225 台，進口金額高達 87.54 億美元，進口金額創下歷史新高。 以產品來説，僅有上海微電子能製造 90nm 工藝節點 DUV 光刻機，與 ASML 差距極大。 難度再大，也要上。 換個角度看，國產光刻膠的發展，絕不能單打獨鬥，需要產業鏈整體突破。 對光刻膠和半導體行業，我們要有信心，更要有耐心。 ### Related Stocks - 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