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title: "新型光刻膠製備方法開發成功 光刻膠相關公司梳理"
type: "News"
locale: "zh-HK"
url: "https://longbridge.com/zh-HK/news/259140816.md"
description: "華東理工大學與約翰霍普金斯大學的國際合作團隊開發了一種新型光刻膠製備方法，利用間歇性旋塗化學液相沉積技術，實現了薄膜的可控沉積速率和厚度。該研究對先進光刻工藝具有重要意義，並已在《自然—化學工程》上發表。A 股市場上涉及半導體光刻膠業務的公司包括上海新陽、南大光電、聚光科技等 20 家。"
datetime: "2025-09-27T04:19:32.000Z"
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# 新型光刻膠製備方法開發成功 光刻膠相關公司梳理

據中國化工報，華東理工大學副教授莊黎偉、美國約翰霍普金斯大學教授邁克爾·薩帕希斯領銜的國際合作團隊，提出了一種間歇性旋塗化學液相沉積製備非晶態沸石咪唑酯骨架薄膜的方法，實現了薄膜沉積速率和厚度的可控，並進行了電子束光刻和超越極紫外光刻驗證。相關研究近日發表於《自然—化學工程》。據介紹，近年來，aZIF 薄膜被用作先進光刻膠。實現 aZIF 薄膜的大面積、高精度可控制備，對相關領域的先進光刻工藝具有重要意義。在前期基於超稀釋前驅體溶液賦能化學液相沉積法制備 aZIF 薄膜策略的基礎上，研究團隊提出了製備 aZIF 薄膜的新方法。根據公司經營業務以及自身在投資者關係互動平台的披露，A 股市場佈局半導體光刻膠業務的公司有上海新陽、南大光電、聚光科技等 20 家，這些公司中既有屬於半導體產業鏈上下游公司，也有公司的子公司或參股公司參與半導體光刻膠業務。

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