<p>亞舍立科技將參加於 2025 年 12 月 17 日至 19 日在日本東京 Big Sight 舉辦的 SEMICON Japan。該公司將在 2 號展廳 2655 號展位展示其最新的離子注入技術。特別活動包括在 12 月 18 日 15:30 至 15:50 於 5 號展廳 TechSPOT 進行的關於下一代功率器件創新離子注入解決方案的演講，以及在 12 月 18 日 16:00 至 17:00 於 2655 號展位舉行的歡樂時光慶祝活動。免責聲明：本新聞簡報由公共技術公司（PUBT）使用生成性人工智能創建。雖然 PUBT 努力提供準確和及時的信息，但此 AI 生成的內容僅供參考，不應被解讀為財務、投資或法律建議。亞舍立科技於 2025 年 12 月 10 日通過 PR Newswire（參考 ID：NE42004）發佈了用於生成本新聞簡報的原始內容，並對此信息的準確性承擔全部責任。© 版權 2025 - 公共技術公司（PUBT）</p>

亞舍立科技

<p>Axcelis Technologies Inc. 將於 2025 年 12 月 17 日至 19 日在東京的 SEMICON Japan 展會上展示其先進的離子注入解決方案。亮點包括關於下一代功率器件創新解決方案的演講和歡樂時光慶祝活動。該活動為信息性活動，不構成財務建議。原始內容由 Axcelis 通過 PR Newswire 發佈</p>

<p>Axcelis Technologies Inc. will participate in SEMICON Japan 2025, taking place from December 17 to 19 at Tokyo Big Sight in Tokyo, Japan. The company will showcase its latest ion implant technologies at Hall 2, Booth #2655. Special events include a presentation on innovative ion implant solutions for next-generation power devices at TechSPOT, Hall 5, on December 18 from 15:30 to 15:50, and a Happy Hour Celebration at Booth #2655 on December 18 from 16:00 to 17:00. Disclaimer: This news brief was created by Public Technologies (PUBT) using generative artificial intelligence. While PUBT strives to provide accurate and timely information, this AI-generated content is for informational purposes only and should not be interpreted as financial, investment, or legal advice. Axcelis Technologies Inc. published the original content used to generate this news brief via PR Newswire (Ref. ID: NE42004) on December 10, 2025, and is solely responsible for the information contained therein. © Copyright 2025 - Public Technologies (PUBT)</p>
<div class="lb-trans"><p>亞舍立科技將參加於 2025 年 12 月 17 日至 19 日在日本東京 Big Sight 舉辦的 SEMICON Japan。該公司將在 2 號展廳 2655 號展位展示其最新的離子注入技術。特別活動包括在 12 月 18 日 15:30 至 15:50 於 5 號展廳 TechSPOT 進行的關於下一代功率器件創新離子注入解決方案的演講，以及在 12 月 18 日 16:00 至 17:00 於 2655 號展位舉行的歡樂時光慶祝活動。免責聲明：本新聞簡報由公共技術公司（PUBT）使用生成性人工智能創建。雖然 PUBT 努力提供準確和及時的信息，但此 AI 生成的內容僅供參考，不應被解讀為財務、投資或法律建議。亞舍立科技於 2025 年 12 月 10 日通過 PR Newswire（參考 ID：NE42004）發佈了用於生成本新聞簡報的原始內容，並對此信息的準確性承擔全部責任。© 版權 2025 - 公共技術公司（PUBT）</p>
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亞舍立科技在 SEMICON Japan 展示其先進的離子注入解決方案