<p>東京電子有限公司（TEL）宣佈推出 EVAROS™，這是一款針對 300 毫米晶圓設計的下一代批量熱處理系統。該新系統顯著提升了生產技術，能夠同時處理多達 200 個晶圓，提高了生產效率。EVAROS™還具備增強的環境性能，與其前身 TELINDY PLUS™相比，每個晶圓的二氧化碳排放減少了約 25%。該系統引入了多區域控制加熱器，以實現卓越的温度控制，並配備大直徑排氣管道，以支持高精度沉積，滿足先進半導體制造需求和未來的自主功能。免責聲明：本新聞簡報由公共技術公司（PUBT）使用生成性人工智能創建。儘管 PUBT 努力提供準確和及時的信息，但此 AI 生成的內容僅供參考，不應被解讀為財務、投資或法律建議。TEL - 東京電子有限公司於 2025 年 12 月 15 日發佈了用於生成本新聞簡報的原始內容，並對此信息的準確性承擔全部責任。© 版權 2025 - 公共技術公司（PUBT）原始文檔：在此</p>

東京電子(ADR)

<p>東京電子有限公司推出了 EVAROS™，這是一款用於 300 毫米晶圓的新型批量熱處理系統，提升了生產效率和環境性能。該系統可以同時處理多達 200 個晶圓，與 TELINDY PLUS™ 相比，二氧化碳排放減少了 25%。它配備了多區域控制加熱器和大直徑排氣管道，適用於先進的半導體制造。此公告於 2025 年 12 月 15 日發佈</p>

<p>Tokyo Electron Ltd. (TEL) has announced the release of EVAROS™, a next-generation batch thermal processing system designed for 300 mm wafers. The new system significantly advances production technology with the capacity to process up to 200 wafers at a time, improving productivity over previous models. EVAROS™ also features enhanced environmental performance, reducing CO2 emissions per wafer by approximately 25% compared to its predecessor, TELINDY PLUS™. The system introduces a multi-zone control heater for superior temperature control and large-diameter exhaust ducts for high-precision deposition, supporting advanced semiconductor manufacturing needs and future autonomous functions. Disclaimer: This news brief was created by Public Technologies (PUBT) using generative artificial intelligence. While PUBT strives to provide accurate and timely information, this AI-generated content is for informational purposes only and should not be interpreted as financial, investment, or legal advice. TEL - Tokyo Electron Ltd. published the original content used to generate this news brief on December 15, 2025, and is solely responsible for the information contained therein. © Copyright 2025 - Public Technologies (PUBT) Original Document: here</p>
<div class="lb-trans"><p>東京電子有限公司（TEL）宣佈推出 EVAROS™，這是一款針對 300 毫米晶圓設計的下一代批量熱處理系統。該新系統顯著提升了生產技術，能夠同時處理多達 200 個晶圓，提高了生產效率。EVAROS™還具備增強的環境性能，與其前身 TELINDY PLUS™相比，每個晶圓的二氧化碳排放減少了約 25%。該系統引入了多區域控制加熱器，以實現卓越的温度控制，並配備大直徑排氣管道，以支持高精度沉積，滿足先進半導體制造需求和未來的自主功能。免責聲明：本新聞簡報由公共技術公司（PUBT）使用生成性人工智能創建。儘管 PUBT 努力提供準確和及時的信息，但此 AI 生成的內容僅供參考，不應被解讀為財務、投資或法律建議。TEL - 東京電子有限公司於 2025 年 12 月 15 日發佈了用於生成本新聞簡報的原始內容，並對此信息的準確性承擔全部責任。© 版權 2025 - 公共技術公司（PUBT）原始文檔：在此</p>
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東京電子 (ADR) 發佈了用於 300 毫米晶圓的 EVAROS 批量熱處理系統