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title: "阿斯麥首席執行官 Christophe Fouquet 表示：沒有人會來找我們的麻煩"
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description: "ASML 首席執行官 Christophe Fouquet 討論了公司在人工智能技術中的關鍵角色，強調其在生產極紫外光刻機方面的壟斷地位，這些機器對先進半導體至關重要。ASML 的估值超過 5300 億美元，面臨來自主要科技公司對人工智能基礎設施進行大量投資所帶來的需求上升。儘管面臨來自初創公司的競爭和潛在的逆向工程威脅，Fouquet 對 ASML 的供應鏈能力仍然充滿信心，並承認當前的芯片短缺以及增加生產能力的必要性。他還回應了關於機器成本的擔憂，聲稱 ASML 的高數值孔徑極紫外光系統雖然價格較高，但在芯片生產中提供了顯著的成本降低"
datetime: "2026-05-05T20:10:15.000Z"
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# 阿斯麥首席執行官 Christophe Fouquet 表示：沒有人會來找我們的麻煩

每次你使用人工智能時，你在某種程度上依賴於一家 42 年的、擁有 44,000 名員工的荷蘭公司，該公司每年花費 45 億歐元來推動其技術進步。

ASML 總部位於荷蘭，製造出使人工智能成為可能的芯片生產機器。更具體地説，它製造出世界上唯一能夠在硅晶圓上打印微觀圖案的機器，這些圖案定義了最先進的半導體——這一過程稱為極紫外光刻（EUV）。這些機器大約有校車那麼大，組裝需要數月時間，涉及數百個供應商，價格從 2 億美元到超過 4 億美元不等，具體取決於代際（這樣的價格甚至讓 ASML 最大的客户偶爾也會感到猶豫）。

這種壟斷使 ASML 成為歐洲最有價值的公司，市值超過 5300 億美元。隨着四大美國科技公司——微軟、Meta、亞馬遜和谷歌——在今年僅在人工智能基礎設施上的支出承諾超過 6000 億美元，對 ASML 機器的需求激增，以至於該公司公開表示，未來幾年全球將沒有足夠的芯片。

所有這些需求也使 ASML 成為了目標。Substrate 是一家由彼得·蒂爾的門徒創辦的舊金山初創公司，已籌集超過 1 億美元，並聲稱其估值超過 10 億美元，聲稱能夠製造出競爭的光刻機。此外，還有報道稱，前 ASML 工程師在中國部分逆向工程了該技術，這一前景具有巨大的地緣政治影響。

克里斯托夫·福凱特在 2024 年成為 ASML 的首席執行官，此前在公司工作了十多年，他在比佛利山的一家酒店的屋頂露台上與本編輯進行了交談，正值他參加米爾肯研究所全球會議的前夕。穿着藍色西裝和白襯衫的他顯得很放鬆——即使談到競爭對手時也是如此。

本次採訪經過輕微編輯，以便於長度和清晰度。

**TC：你預見到人工智能的爆炸性增長嗎？**

Techcrunch 活動

舊金山，加州 |2026 年 10 月 13-15 日

CF：完全沒有。我們非常努力地工作，但並沒有想到會出現這樣的情況。你從一個概念——人們認為最終會到來的東西——轉變為 ChatGPT，這實際上是人工智能能夠做的第一個良好示例。現在我認為我們將人工智能視為下一個革命，不僅是工業革命，也是社會革命。我是否預見到這一點？沒有。每天身處其中，有時早上醒來時，我們仍然會檢查發生的事情是否真的在發生。

**每個人都在問的一個大問題是供應鏈能否跟上需求。可以嗎？**

需求如此之大，以至於整體市場在相當長的一段時間內將受到供應限制。目前，最大的瓶頸似乎在於芯片製造。作為設備供應商，我們跟隨我們的客户，到目前為止我們跟得還不錯——但我們知道必須提升整個供應鏈和產能。如果你和超大規模企業交談，我想他們會告訴你，在接下來的兩年、三年，甚至五年內，他們不會得到足夠的芯片。

**台積電最近發出消息稱你們最新的機器太貴了。你如何回應？**

如果你看 EUV 系統的價格，它會比低 NA 系統更貴，但用這種工具在一些先進層上製造晶圓的成本會更低。我們可以實現 20%、30% 的成本降低。

_\[編輯注：福凱特在這裏提到的兩種機器都是 EUV 機器——相同的基本技術。NA 代表數值孔徑，是衡量機器如何將光聚焦到芯片上的一個指標。低 NA EUV 是當前代；高 NA EUV 是 ASML 最新一代，能夠打印更精細的圖案，但每台機器的價格在 3.5 億美元或以上。福凱特認為，儘管新機器的成本更高，但它能更便宜地生產芯片。\]_

我收到很多關於它會在這個月、下個月或下下個月的問題。我通常會説這並不重要，因為我們為未來 10、20 年設計了高 NA。你可以回顧 2016 年、2017 年的新聞，你會發現相同的引用——低 NA EUV 非常昂貴。我們知道之後發生了什麼。高 NA 也會發生同樣的事情。

**有一家名為 Substrate 的初創公司，由彼得·蒂爾支持，聲稱能夠製造出競爭的光刻機。你怎麼看待它？**

想要擁有和真正擁有之間仍然有很大的區別。光刻的挑戰有很多。能夠製作圖像是一個起點，但你需要以非常高的數量、非常低的成本、高速和納米級的精度製作該圖像。我總是説，ASML 能夠製造 EUV 機器的唯一原因是 80% 的技術已經存在，基於過去的知識和產品的積累。我們只需解決一個問題——獲取 EUV 光，而這僅僅花了 20 年。當你從零開始時，挑戰是巨大的。我見過很多聲稱。我見過一些圖片。但我們 30 年前就有了第一張 EUV 圖片，仍然需要 20 年的艱苦工作才能將其轉變為製造系統。

**關於 xLight，一家部分由美國政府支持的激光初創公司，想與你合作，你怎麼看？**

xLight 專注於我們 EUV 機器的一個元素——產生光的源。我們擁有的源可以延續很多年，我們知道如何擴展它。xLight 正在做的是一個新的源，仍需構建和驗證。唯一的問題是它是否能提供比我們現有的性能或成本優勢。我認為結果仍未確定。我們正在與他們合作，以便他們能夠展示他們的技術——我們覺得這是我們的責任。但這仍然是一個非常漫長的旅程。

**還有報道稱，前 ASML 工程師在中國逆向工程了你們的機器。**

要逆向工程任何東西，首先需要有機器。而中國沒有 EUV 機器——我們從未向那裏運輸過任何工具。我們所運輸的所有工具，我們都知道它們在哪裏。它們要麼在客户那裏使用，我們會跟蹤這些工具，要麼已經被拆解並返回給我們。認為我們的系統在中國是完全錯誤的。而且由於我們的 EUV 技術從未出口到那裏，我們在中國也沒有經過 EUV 培訓的人。

在限制措施剛開始時，我們在公司內部創建了一個完全的隔離，區分那些可以訪問 EUV 技術、文件和培訓的人和那些不能的人。我們在中國的團隊位於那條界線的另一邊。事實表明，幾乎沒有任何進展。人們很難接受這一點，因為接觸這項技術是如此重要。

**關於更廣泛的出口管制——黃仁勳昨晚在這裏辯稱，企業應該全球銷售，更多的企業收入意味着更多的税收收入回饋企業的本國。他還表示，重要的是將最新和最好的技術留在本土。你同意嗎？**

我認為他完全正確。他補充的觀點——我認為這就是 Nvidia 所做的——是通過保持銷售產品之間的代際差距來保持技術優勢。Nvidia 銷售的是幾代之前的產品，這讓他們在繼續做生意和不將強大的競爭優勢交給那些不銷售最新產品的國家之間找到平衡。我們相信同樣的方法也適用於我們的產品。今天我們向中國運輸工具——這是在出口管制允許下的——但這是我們在 2015 年首次運輸的工具。如果將黃仁勳的理念應用於我們的情況，Nvidia 大約有八代的差距。我們面臨的是兩到三代的差距。還有合理化的空間——在完全不做生意、失去重大機會和強烈邀請他人與你競爭之間找到正確的平衡。

**你如何評估當前政府在這一切上的立場？**

有良好的對話，這非常重要。我認為對商業需求有真正的理解，但仍然面臨在不同聲音和利益之間找到正確平衡的挑戰。對話是存在的，我們對此表示感激。我去過華盛頓很多次。至少討論正在進行。但這是一個非常複雜的話題。

**你似乎並不擔心有人會捷徑獲取你的技術。**

人們喜歡擁有最先進的技術，但他們往往忘記了構建它所需的努力。這是多年的工作——不僅在 ASML，還包括我們的供應商。許多不同的團隊解決非常困難的問題，然後由一家公司將其整合在一起，利用數十年的光刻專業知識將其轉化為製造系統。這絕非易事。我認為這也是我們最好的保護。這就是組裝它所需的努力。

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