我是 LongbridgeAI，我可以總結文章信息。ASML 的股價在有報道稱中國大規模生產關鍵的 DUV 光刻機後下跌，引發了市場侵蝕的擔憂。然而，分析師們呼籲保持謹慎，指出了重要的警告：中國產的機器可能主要針對低端芯片，與 ASML 相比在產量和可靠性上存在差距，並且生產規模有限（5 台對比 ASML 的 130 台）。因此，專家們認為這一發展不會對 ASML 的主導地位或收入產生重大影響，因為這只是取代了已經因出口管制而失去的銷售
ASML 的股票在週二下跌，此前有報道稱中國正在大規模生產一款荷蘭科技巨頭長期壟斷的關鍵工具。
在全球半導體股票大幅拋售的背景下，ASML 的股價下跌了 1.8%，但今年以來該股已上漲超過 123%。
分析師告訴 CNBC，儘管關於中國進入 ASML 主導市場的報道可能引發一些擔憂，但這些發展不太可能動搖這家荷蘭公司的主導地位，並補充説這個故事還有一些重要的警示。
ODDO BHF 的股票研究負責人 Stephane Houri 告訴 CNBC：“我對此持保留態度，因為中國所做的可能僅限於非常低端的市場。”
發生了什麼？
《信息》週一報道稱，一家未具名的中國公司已開始製造浸沒式深紫外光刻（DUV）機，引用了知情人士的話。
這些工具預計將在今年交付給中國最大的芯片製造商，包括中芯國際和本週上市的長鑫存儲技術（CXMT）。
為什麼會引發拋售？
投資者擔心，如果中國繼續發展本土半導體技術，可能會使一些最大的美國、歐洲和其他亞洲公司失去進入這一巨大市場的機會。
浸沒式 DUV 機是一種用於在硅晶圓上刻蝕電路圖案的工具。它是半導體制造過程中的關鍵部分，由台積電（TSMC）和英特爾等代工廠購買。
一台用於 DUV 掃描儀的晶圓裝載機器人在 2025 年 11 月 20 日於美國亞利桑那州鳳凰城的 ASML 美國技術培訓學院揭幕時展示。
Rebecca Noble | 路透社
然而，它用於較低端的芯片。相比之下，極紫外光（EUV）光刻機用於最先進的芯片，例如蘋果和英偉達設計的芯片。
ASML 在 DUV 和 EUV 光刻工具市場中佔據主導地位。沒有其他公司能夠複製 ASML 的技術，這就是為什麼一家中國公司據稱能夠做到這一點是個大新聞。然而，關於最新發展對公司的影響仍然存在疑問。
規模和性能問題
在中國 DUV 機器的性能方面，半導體制造商關注一個被稱為 “良率” 的術語，指的是從生產過程中獲得的可用芯片數量。所有代工廠都追求最大良率。
目前尚不清楚使用本土 DUV 機器的中國製造商是否能夠提供接近或超過 ASML 機器的芯片良率。如果良率與 ASML 機器提供的差距較大，可能會阻礙中國機器的採用。
“他們需要至少達到良率平價，而不僅僅是有一台可用的工具，” Futurum Group 的 AI 負責人 Nick Patience 告訴 CNBC。
Patience 表示，中國最大的芯片製造商中芯國際使用的進口 DUV 機器 “仍然遠不如台積電的機器”。
“任何由不知名的國家支持的公司製造的機器都處於一個更糟糕的起點。可靠性需要在現場經過多年的迭代，而 ASML 已經具備這一點，而中國仍未實現，” Patience 補充道。
中國面臨的另一個挑戰是擴大這些機器的生產規模。《信息》報道稱，開發 DUV 工具的中國公司計劃今年生產五台，預計到 2027 年生產約 20 台。
相比之下，ASML 表示計劃在 2026 年生產約 130 台 DUV 浸沒式機器，並計劃在 2027 年增加 30% 的產量。
“工具性能、機器本身的生產規模、設備性能、周邊生態系統以及與完全折舊的 ASML 機器相比的經濟效益都對中國 DUV 不利，” SemiAnalysis 的分析師團隊告訴 CNBC。
“機器本身的生產規模是被低估的部分。”
這會傷害 ASML 嗎？
在報告引發對其在中國市場份額可能被侵蝕的擔憂後，ASML 的股價週一暴跌了 8%。
中國佔 ASML 第二季度 66 億歐元（75 億美元）淨系統銷售的 14%。這大約是 9.24 億歐元（約 10 億美元）。
分析師告訴 CNBC，這不太可能對 ASML 在中國或全球產生重大影響。
由於出口限制，ASML 已經被限制向中國公司銷售某些浸沒式 DUV 工具。因此，中國正在生產的 DUV 工具 “取代了 ASML 因出口管制而已經失去的收入，” SemiAnalysis 的分析師表示，並補充説 ASML 正在增加產能以滿足需求。
股票圖標
ASML 過去五天的股價表現。
“ASML 無法合法或物理供應的工具在本地生產並不會減少已售罄的訂單，” SemiAnalysis 的分析師指出。
對 ASML 的任何挑戰 “都需要中國公司能夠批量生產可靠的機器，並在全球各種製造環境中支持它們，而這在目前看來似乎相當困難，” DGA Albright Stonebridge Group 的合夥人 Paul Triolo 告訴 CNBC。
“在國內提供少量甚至是最低限度可用的 DUV 機器是一回事，而支持一個能夠與 ASML 真正競爭的全球設備則是另一回事。”
中國能否進一步發展？
路透社去年報道稱，中國已完成一台 EUV 機器的工作原型，而這也是隻有 ASML 能夠生產的工具。然而，分析師表示，DUV 的進展並不一定意味着中國能夠攻克 EUV。
SemiAnalysis 表示，ASML 需要 “約 20 年的時間” 和約 100 億美元的研發以及來自英特爾、台積電和三星等公司的共同投資，才能使 EUV 在商業上可行。EUV 在 2018 年至 2019 年間才開始實現規模盈利。
“在深紫外浸沒式光刻方面的一些突破適用於更先進的極紫外技術，但許多並不適用。” DGA Albright Stonebridge Group 的 Triolo 表示。“雖然會有一些學習，但要實現一個完全功能的極紫外系統，還有許多技術障礙需要克服。”
“我認為極紫外技術是遙不可及的。永遠不要説不，尤其是對於中國人來説，但這是一種完全不同的技術。” ODDO BHF 的 Houri 補充道。
選擇 CNBC 作為您在 Google 上的首選來源，永不錯過商業新聞中最值得信賴的名字的任何時刻。