阿斯麥的供應商表示，中國在頂級芯片製造工具方面落後了 15 年
我是 LongbridgeAI，我可以總結文章信息。蔡司集團半導體部門負責人 Frank Rohmund 表示，中國在極紫外（EUV）光刻機的研發上大約落後 15 年。這一評估與瑞銀分析師的觀點一致，並突顯了北京在美國對先進芯片製造工具實施出口限制的背景下，實現自給自足所面臨的挑戰。儘管中國在深紫外（DUV）技術方面取得了一定進展，Rohmund 強調全球領先者仍然遙遙領先。他還警告稱，出口管制可能無意中加速中國的創新
[柏林] 德國蔡司集團的一位高管表示，中國在開發尖端芯片製造工具方面落後大約十五年，這是全球半導體行業的關鍵供應商。
蔡司半導體部門負責人弗蘭克·羅赫蒙德在彭博電視上表示，合理的假設是，北京需要 15 年才能開發出極紫外（EUV）光刻機，同時指出該國的進展難以量化。
芯片製造技術是美國努力阻止中國獲取頂級人工智能芯片的關鍵目標，因為這兩個最大經濟體正在競爭開發尖端模型。
美國禁止蔡司的股東 ASML 向中國出口其最先進的機器，而北京則在其國內半導體行業投入資金，以尋求自給自足。
蔡司是 ASML 的 EUV 機器所用光學元件的獨家供應商，而這家荷蘭公司是全球唯一製造此類設備的公司。
EUV 技術對於生產用於 Nvidia 人工智能加速器的最先進芯片至關重要。
羅赫蒙德的估計是在瑞銀分析師弗朗索瓦 - 澤維爾·布維尼耶本週撰寫的報告之後得出的，該報告指出中國至少還需要十年才能開發出國內的 EUV 技術。
中國是 ASML 前一代使用深紫外（DUV）技術的芯片製造機器的主要市場之一。美國還要求對荷蘭公司一些更復雜的浸沒式 DUV 模型進行出口許可。
羅赫蒙德表示，任何將出口管制擴展到包括傳統 DUV 機器的計劃對商業來説都是不利的。
“我們不相信這些出口限制會產生積極影響，因為這加速了中國的創新，” 他説。
中國在生產浸沒式 DUV 光刻工具方面取得了進展。根據《信息》在七月的報道，一家位於上海的公司正在製造此類設備，引用了不願透露姓名的知情人士。
羅赫蒙德表示，北京在這項技術上已經工作了幾十年。“這並不令人驚訝，現在我們需要看看這些工具的實際能力，” 他談到最近的進展報告時説。
“我們仍然遙遙領先，” 他補充道。
蔡司表示，其組件用於生產全球約 80% 的芯片。ASML 在 2017 年以 10 億歐元（12 億美元）收購了位於德國奧伯科亨的蔡司半導體部門的少數股權。
為了滿足人工智能驅動的需求，蔡司已擴展其奧伯科亨總部以增加生產。它還在另一個地點建設一座工廠。彭博社