
英特尔 18A 工艺终于准备就绪

英特尔宣布其 Intel 18A 工艺现已准备就绪,这标志着其在半导体制造方面追赶台积电的重要一步。该工艺引入了新技术,包括 RibbonFET 和 PowerVia,承诺每瓦性能提高 15% 以及芯片密度增加 30%。然而,高产量生产预计要到 2026 年才会逐步提升,初步客户如微软已排队等候。尽管如此,英特尔的未来仍然不确定,关于潜在企业变动的传闻不断,投资者需要耐心等待财务收益
尽管芯片巨头 英特尔(INTC -4.68%)面临着一系列问题,但该公司在半导体制造方面已取得了显著进展,逐渐赶上 台积电。英特尔在其严重延迟的 10 纳米工艺上停滞了很长时间,这导致了产品方面的各种问题。英特尔 4 和英特尔 3 工艺节点分别用于 Meteor Lake PC CPU 和最新一代 Xeon 服务器 CPU,都是英特尔的重要升级。
英特尔之前取消了英特尔 20A 工艺,该工艺本应成为开发重要新技术的垫脚石。对于最新的 PC 芯片,英特尔转向了台积电,而不是使用英特尔 20A 工艺,因为它将资源重新分配给英特尔 18A。英特尔 18A 工艺是公司原始代工路线图中的最后一个节点,旨在使英特尔在性能和效率上与台积电持平。
英特尔 18A 已到来
根据英特尔网站上的一页信息,英特尔 18A 工艺现在已准备就绪。理解这里的 “准备就绪” 非常重要。该工艺的开发已完成,但芯片开始在英特尔工厂大规模生产仍需时间。英特尔指出,代工客户的首次流片将在今年上半年开始。流片是设计过程的最后阶段,下一步是制造。
英特尔 18A 工艺具有两个特性,将推动与英特尔 3 相比的性能和效率提升。首先,英特尔 18A 采用了一种新的晶体管设计,称为 RibbonFET,取代了 2011 年引入的 FinFET 架构。转向 RibbonFET 将提高每瓦特的性能并减少功耗泄漏,以及其他好处。
其次,英特尔 18A 是任何代工厂首个支持背面供电的工艺。英特尔的这种技术称为 PowerVia,将某些组件移至芯片的背面,以提高电力分配的效率。仅 PowerVia 就将带来显著的性能提升。
英特尔声称,英特尔 18A 在每瓦特性能上比英特尔 3 提高了 15%,芯片密度提高了 30%。英特尔 18A 与台积电顶级工艺节点的比较仍然是一个悬而未决的问题,但至少,英特尔 18A 应该能显著缩小差距。
有意义的收入还需时日
在 2026 年之前,不要指望英特尔 18A 能带来太多外部代工收入。英特尔之前表示,提升到大规模生产的过程将延续到明年。该公司已经为英特尔 18A 安排了一些大客户,包括 微软,但英特尔需要时间来建立产能。
英特尔下一代笔记本 CPU 系列 Panther Lake 可能会作为英特尔 18A 工艺在高容量产品中的首次亮相。该公司计划在年底前发货 Panther Lake,预计到 2026 年产量将逐步增加。到 2026 年晚些时候,英特尔计划将英特尔 18A 工艺用于其 Clearwater Forest 服务器 CPU。
随着英特尔 18A 准备投入生产,英特尔现在需要寻找更多客户,并用新订单填补其计划的生产能力。这涉及到在英特尔未来仍然不确定的情况下赢得芯片设计师的信任。关于潜在分拆、收购和合并的传闻为潜在客户创造了复杂的局面。
如果英特尔 18A 工艺能够兑现公司的承诺,并在性能和效率上与台积电相匹配,这将标志着制造业务的惊人转变。然而,这一成就可能要到 2026 年才能惠及英特尔的财务业绩。英特尔的投资者需要保持耐心。

