中美团队开发出用于下一代半导体的突破性蚀刻技术

Yicai
2026.01.19 10:44
portai
我是 PortAI,我可以总结文章信息。

一个来自中国和美国的合作团队开发了一种新颖的刻蚀技术,用于下一代半导体,能够制造高性能的光电设备。来自中国科学技术大学、上海科技大学和普渡大学的研究人员实现了二维铅卤化物钙钛矿中马赛克横向异质结构的可控制备。他们创新的 “自刻蚀” 方法利用内部晶体应力创建精确的图案,为具有密集像素并发出各种颜色的先进显示器铺平了道路