我是 LongbridgeAI，我可以总结文章信息。ASML 的股价在有报道称中国大规模生产关键的 DUV 光刻机后下跌，引发了市场侵蚀的担忧。然而，分析师们呼吁保持谨慎，指出了重要的警告：中国产的机器可能主要针对低端芯片，与 ASML 相比在产量和可靠性上存在差距，并且生产规模有限（5 台对比 ASML 的 130 台）。因此，专家们认为这一发展不会对 ASML 的主导地位或收入产生重大影响，因为这只是取代了已经因出口管制而失去的销售
ASML 的股票在周二下跌，此前有报道称中国正在大规模生产一款荷兰科技巨头长期垄断的关键工具。
在全球半导体股票大幅抛售的背景下，ASML 的股价下跌了 1.8%，但今年以来该股已上涨超过 123%。
分析师告诉 CNBC，尽管关于中国进入 ASML 主导市场的报道可能引发一些担忧，但这些发展不太可能动摇这家荷兰公司的主导地位，并补充说这个故事还有一些重要的警示。
ODDO BHF 的股票研究负责人 Stephane Houri 告诉 CNBC：“我对此持保留态度，因为中国所做的可能仅限于非常低端的市场。”
发生了什么？
《信息》周一报道称，一家未具名的中国公司已开始制造浸没式深紫外光刻（DUV）机，引用了知情人士的话。
这些工具预计将在今年交付给中国最大的芯片制造商，包括中芯国际和本周上市的长鑫存储技术（CXMT）。
为什么会引发抛售？
投资者担心，如果中国继续发展本土半导体技术，可能会使一些最大的美国、欧洲和其他亚洲公司失去进入这一巨大市场的机会。
浸没式 DUV 机是一种用于在硅晶圆上刻蚀电路图案的工具。它是半导体制造过程中的关键部分，由台积电（TSMC）和英特尔等代工厂购买。
一台用于 DUV 扫描仪的晶圆装载机器人在 2025 年 11 月 20 日于美国亚利桑那州凤凰城的 ASML 美国技术培训学院揭幕时展示。
Rebecca Noble | 路透社
然而，它用于较低端的芯片。相比之下，极紫外光（EUV）光刻机用于最先进的芯片，例如苹果和英伟达设计的芯片。
ASML 在 DUV 和 EUV 光刻工具市场中占据主导地位。没有其他公司能够复制 ASML 的技术，这就是为什么一家中国公司据称能够做到这一点是个大新闻。然而，关于最新发展对公司的影响仍然存在疑问。
规模和性能问题
在中国 DUV 机器的性能方面，半导体制造商关注一个被称为 “良率” 的术语，指的是从生产过程中获得的可用芯片数量。所有代工厂都追求最大良率。
目前尚不清楚使用本土 DUV 机器的中国制造商是否能够提供接近或超过 ASML 机器的芯片良率。如果良率与 ASML 机器提供的差距较大，可能会阻碍中国机器的采用。
“他们需要至少达到良率平价，而不仅仅是有一台可用的工具，” Futurum Group 的 AI 负责人 Nick Patience 告诉 CNBC。
Patience 表示，中国最大的芯片制造商中芯国际使用的进口 DUV 机器 “仍然远不如台积电的机器”。
“任何由不知名的国家支持的公司制造的机器都处于一个更糟糕的起点。可靠性需要在现场经过多年的迭代，而 ASML 已经具备这一点，而中国仍未实现，” Patience 补充道。
中国面临的另一个挑战是扩大这些机器的生产规模。《信息》报道称，开发 DUV 工具的中国公司计划今年生产五台，预计到 2027 年生产约 20 台。
相比之下，ASML 表示计划在 2026 年生产约 130 台 DUV 浸没式机器，并计划在 2027 年增加 30% 的产量。
“工具性能、机器本身的生产规模、设备性能、周边生态系统以及与完全折旧的 ASML 机器相比的经济效益都对中国 DUV 不利，” SemiAnalysis 的分析师团队告诉 CNBC。
“机器本身的生产规模是被低估的部分。”
这会伤害 ASML 吗？
在报告引发对其在中国市场份额可能被侵蚀的担忧后，ASML 的股价周一暴跌了 8%。
中国占 ASML 第二季度 66 亿欧元（75 亿美元）净系统销售的 14%。这大约是 9.24 亿欧元（约 10 亿美元）。
分析师告诉 CNBC，这不太可能对 ASML 在中国或全球产生重大影响。
由于出口限制，ASML 已经被限制向中国公司销售某些浸没式 DUV 工具。因此，中国正在生产的 DUV 工具 “取代了 ASML 因出口管制而已经失去的收入，” SemiAnalysis 的分析师表示，并补充说 ASML 正在增加产能以满足需求。
股票图标
ASML 过去五天的股价表现。
“ASML 无法合法或物理供应的工具在本地生产并不会减少已售罄的订单，” SemiAnalysis 的分析师指出。
对 ASML 的任何挑战 “都需要中国公司能够批量生产可靠的机器，并在全球各种制造环境中支持它们，而这在目前看来似乎相当困难，” DGA Albright Stonebridge Group 的合伙人 Paul Triolo 告诉 CNBC。
“在国内提供少量甚至是最低限度可用的 DUV 机器是一回事，而支持一个能够与 ASML 真正竞争的全球设备则是另一回事。”
中国能否进一步发展？
路透社去年报道称，中国已完成一台 EUV 机器的工作原型，而这也是只有 ASML 能够生产的工具。然而，分析师表示，DUV 的进展并不一定意味着中国能够攻克 EUV。
SemiAnalysis 表示，ASML 需要 “约 20 年的时间” 和约 100 亿美元的研发以及来自英特尔、台积电和三星等公司的共同投资，才能使 EUV 在商业上可行。EUV 在 2018 年至 2019 年间才开始实现规模盈利。
“在深紫外浸没式光刻方面的一些突破适用于更先进的极紫外技术，但许多并不适用。” DGA Albright Stonebridge Group 的 Triolo 表示。“虽然会有一些学习，但要实现一个完全功能的极紫外系统，还有许多技术障碍需要克服。”
“我认为极紫外技术是遥不可及的。永远不要说不，尤其是对于中国人来说，但这是一种完全不同的技术。” ODDO BHF 的 Houri 补充道。
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