阿斯麦的供应商表示，中国在顶级芯片制造工具方面落后了 15 年

[柏林] 德国蔡司集团的一位高管表示，中国在开发尖端芯片制造工具方面落后大约十五年，这是全球半导体行业的关键供应商。

蔡司半导体部门负责人弗兰克·罗赫蒙德在彭博电视上表示，合理的假设是，北京需要 15 年才能开发出极紫外（EUV）光刻机，同时指出该国的进展难以量化。

芯片制造技术是美国努力阻止中国获取顶级人工智能芯片的关键目标，因为这两个最大经济体正在竞争开发尖端模型。

美国禁止蔡司的股东 ASML 向中国出口其最先进的机器，而北京则在其国内半导体行业投入资金，以寻求自给自足。

蔡司是 ASML 的 EUV 机器所用光学元件的独家供应商，而这家荷兰公司是全球唯一制造此类设备的公司。

EUV 技术对于生产用于 Nvidia 人工智能加速器的最先进芯片至关重要。

罗赫蒙德的估计是在瑞银分析师弗朗索瓦 - 泽维尔·布维尼耶本周撰写的报告之后得出的，该报告指出中国至少还需要十年才能开发出国内的 EUV 技术。

中国是 ASML 前一代使用深紫外（DUV）技术的芯片制造机器的主要市场之一。美国还要求对荷兰公司一些更复杂的浸没式 DUV 模型进行出口许可。

罗赫蒙德表示，任何将出口管制扩展到包括传统 DUV 机器的计划对商业来说都是不利的。

“我们不相信这些出口限制会产生积极影响，因为这加速了中国的创新，” 他说。

中国在生产浸没式 DUV 光刻工具方面取得了进展。根据《信息》在七月的报道，一家位于上海的公司正在制造此类设备，引用了不愿透露姓名的知情人士。

罗赫蒙德表示，北京在这项技术上已经工作了几十年。“这并不令人惊讶，现在我们需要看看这些工具的实际能力，” 他谈到最近的进展报告时说。

“我们仍然遥遥领先，” 他补充道。

蔡司表示，其组件用于生产全球约 80% 的芯片。ASML 在 2017 年以 10 亿欧元（12 亿美元）收购了位于德国奥伯科亨的蔡司半导体部门的少数股权。

为了满足人工智能驱动的需求，蔡司已扩展其奥伯科亨总部以增加生产。它还在另一个地点建设一座工厂。彭博社