
公司成立于 2015 年 12 月,是一家面向全球的半导体、泛半导体高端微纳装备制造商。公司形成了以原子层沉积 (ALD) 技术为核心,CVD 等多种真空薄膜技术梯次发展的产品体系。公司专注于先进微米级、纳米级薄膜设备的研发、生产与销售,向下游半导体、泛半导体客户提供尖端薄膜设备、配套产品及服务。公司产品主要包括 iTomicHiK 系列原子层沉积系统、iTomicMeT 系列原子层沉积系统、iTomicMW 系列批量式原子层沉积系统、iTomicLite 系列轻型原子层沉积系统、iTomicPE 系列等离子体增强原子层沉积系统、iTomicSPX 系列空间型原子层沉积系统、iTronixMTP 系列等离子体增强化学气相沉积系统;夸父 (KF) 系列批量式 ALD 系统、祝融 (ZR) 管式 PECVD 系统 PEALD/PECVD 集成系统、羲和 (XH) 系列高温低压系统、精卫 (JW) 系列管式边缘钝化系列、后羿 (HY) 系列板式 ALD 系统、SuiREVA 系列卧式蒸镀系统、SuiRMS 系列立式磁控溅射系统;iSparol 系列卷对卷 ALD 系统等。企业荣誉:工信部专精特新小巨人企业、苏南国家自主创新示范区独角兽企业、江苏省小巨人企业 (制造类)、“无锡市最佳聚才单位”“优秀雇主奖”、“高层次人才引进贡献奖”、荣获国家级知识产权优势企业、无锡市专利奖、无锡市知识产权战略推进项目、无锡市高新区 (新吴区) 知识产权强企培育企业、2025 湾芯奖 “技术创新奖·技术领先企业”、上海证券报 “上证鹰·金质量 2025 科技创新奖”、上海有色网 “光伏行业智能装备创新奖”、核心产品被列入 2025 年度江苏省 “三首两新” 技术产品名单等荣誉称号。