知情人士透露，这台 EUV 光刻机是由一组来自荷兰芯片设备巨头$阿斯麦(ASML.US)的前工程师团队打造，通过逆向工程仿制 ASML 的 EUV 机。目前这台中国 EUV 光刻机已能运行并成功产生极紫外光，但尚未生产出可用的芯片。

据报道，中国政府的目標是在 2028 年前实现原型机芯片生产，部分专家则估计有可能到 2030 年才实现量产，仍比外界认为的「至少 10 年」大幅提前。