本文作者：張逸凡編輯：申思琦來源：硬 AIAI 需求究竟能不能繼續超預期，一直是市場最關注的點。ASML、台積電、英偉達算是 AI 產業鏈的上中下游，任何一家的數據變化都讓投資者們的心砰砰直跳。今天，《經濟日報》報道，由於 2nm 製程需求強勁，台積電 2025 年資本支出有望達到 320 億美元至 360 億美元。相比於今年 4 月法説會上提到的 “2024 年資本指出預計將介於 280 億至 320 億美元之間 “，上調了約 40 億美金。台積電的超預期上調資本開支，市場自然而然想到 ASML 業績是不是要上調了。無獨有偶，上週末，大摩發佈了一篇報告，詳細論述了 ASML 今年的業績能否超預期的三大變量：<blockquote>1）台積電在 ASML 訂單情況；2）HBM 需求，三星、美光、海力士在 ASML 的訂單情況；3）中國市場的情況，收入佔比高（24Q1，中國地區收入佔 ASML 的比例是 49%）；</blockquote>對於 ASML 來説，不止是台積電帶來了好消息，海力士也在本週上調了 HBM 的產能規劃。一下子兩個催化因素到來，ASML 股東是不是要開心了？我們具體來看。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/dd24edae-9d58-494d-a0bb-c204dd97d937.png?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" alt="" title="" width="865" height="727" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/dd24edae-9d58-494d-a0bb-c204dd97d937.png"/><h2>1、台積電</h2>《經濟日報》今日報道，由於 2nm 製程需求強勁，台積電 2025 年資本支出有望達到 320 億美元至 360 億美元。相比於今年 4 月法説會上提到的 “2024 年資本指出預計將介於 280 億至 320 億美元之間 “，上調了約 40 億美金。40 億美金約可購買 22 台 ASML EUV 設備（單台 EUV 約 1.73 億歐元）。EUV 光刻機主要用於 3nm/2nm 產線的建設。此前台積電法説會透露 2024、2025 已經分別下單 30 台、35 台 EUV 設備。這次上調資本開支，或將提升 EUV 設備的採購數量，ASML 或受益。不過，需要注意的是，台積電對此次上調資本開支的市場傳聞表示不評論，並強調有關 2nm 和資本支出的進展以今年 4 月份的法説會內容為主。<h2>2、HBM 拉動</h2>6 月 30 日，SK Hynix 宣佈了將投資 103 萬億韓元（約合 747 億美元），計劃在 2028 年之前進一步加強其面向人工智能存儲芯片業務。據報道，其中約 80%（即 82 萬億韓元）的投資將用於發展高帶寬內存（HBM）芯片，以推動與 AI 芯片發展的配合。正如大摩在近日的報告中預測的那樣，HBM 的大幅擴產，2024 年美光、三星、海力士將加大訂單需求，從而推動 ASML 業績的增長。其中，海力士將繼續作為 HBM3 和 HBM3E 的主導供應商，並在未來 2-3 年內保持 50% 以上的整體 HBM 市場份額。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/074fb079-5dcf-4bb4-b166-6259b4377143.png?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" alt="" title="" width="865" height="614" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/074fb079-5dcf-4bb4-b166-6259b4377143.png"/>此前，大摩在測算中假設 24-26 年，海力士資本開支是每年 17 萬億韓元。此次宣佈 2024 年-2028 年資本支出 103 萬億韓元，相當於每年開支在 25 萬億韓元，相信會進一步提升上游廠商的訂單。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/2cf10551-22de-4abb-bea3-0ae3a8297d93.png?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" alt="" title="" width="865" height="395" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/2cf10551-22de-4abb-bea3-0ae3a8297d93.png"/><h2>3、High NA EUV 光刻機</h2>不過，ASML 也有一些新品上的風險。對於下一代新品光刻機 High NA EUV，大摩預測，ASML 最快於 2028 年批量出貨，這比之前預期的要晚。去年 12 月，ASML 向英特爾交付了全球首台 High NA EUV 光刻機設備，該設備可用於建設最先進的 A10 製程產線（目前的 EUV 設備主要是用於 2/3nm 製程），目前英特爾的進展也不順利。大摩預測，台積電不太可能在其 A10 節點之前大規模採用 ASML 的 High-NA 技術，預計該節點將在 2028 年開始量產。

阿斯麥

三大業績變量，迎來兩個積極向好，ASML 怎麼看？

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