<div id="readability-page-1">光刻膠，是芯片製造的關鍵材料。為了打破國際壟斷，中國企業全力攻關，進步確實很大。但是，與日本相比，中國光刻膠仍然有很大的差距。到底差在哪裏？中國企業又該如何突圍？一、光刻膠國產化光刻膠，顧名思義，就是光刻機在光刻過程中使用的聚合物薄膜材料，英文直譯過來是光致抗蝕劑，能在紫外光、電子束、離子束、X 射線等照射或輻射下，發生聚合或解聚反應，把圖案留在硅片上。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144403433168.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144403433168.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>光刻膠工作原理 我們平常説的光刻膠，其實是一類產品的統稱。按形成的圖像來分，有正性和負性兩大類。按曝光光源和輻射源的不同就分得更細了，可分為紫外光刻膠、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻完成後的晶圓片 每類都有前面説的正負性之分，品種規格很多，非常複雜，對應的配方和生產技術也簡單不了，但總體上都包括三種成分：感光樹脂、增感劑和溶劑。光刻膠的使用範圍相當廣，顯示面板、集成電路和半導體分立器件等細微圖形的加工作業都用得到，下游產品從智能手機的處理器到醫療設備的傳感器，再到航天器的控制系統……無所不包。尤其是對於精密製造和小型化設備的生產，光刻膠更是至關重要。光刻膠是智能裝備必不可少的源頭精細化工品，其性能直接影響到終端產品的產能和質量。光刻膠的市場規模基本約等於智能裝備的製造能力，它的研發和改進也是半導體技術水平的關鍵指標。正是意識到光刻膠的重要性，近二十年來，我國一直非常重視光刻膠行業的發展，積極給予政策支持，力爭實現國產化。早在 “十二五” 期間列出的 16 個國家科技重大專項，《極大規模集成電路製造裝備及成套工藝》位列第二，號稱 “02 專項”。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144405740031.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144405740031.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>《極大規模集成電路製造裝備及成套工藝》列入國家科技重大專項 十年過去，“02 專項” 結出碩果。2020 年底，南大光電發佈公告，稱其控股子公司 “寧波南大光電” 自主研發的 ArF 光刻膠產品成功通過客户的使用認證，“本次認證選擇客户 50nm 閃存產品中的控制柵進行驗證，寧波南大光電的 ArF 光刻膠產品測試各項性能滿足工藝規格要求，良率結果達標。”超高精細光刻膠項目在 2018 年 5 月通過了 02 專項驗收，2019 年底，以研發團隊為技術骨幹的國科天驥公司在濱州成立，進行高檔光刻膠及其相關有機濕電子化學品的小批量生產。2021 年，國科天驥在濱州生產園區試生產高檔光刻膠。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144406919209.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144406919209.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>新聞報道 徐州博康已成功開發 ArF/KrF 單體及光刻膠、I 線光刻膠、封裝光刻膠、電子束光刻膠等系列產品。最近，武漢太紫微光電科技有限公司推出的 T150 A 光刻膠產品，已通過半導體工藝量產驗證，實現配方全自主設計。目前，國內已有數十家企業涉足光刻膠領域，在短短几年內提高了光刻膠的國產化率，市場產值也快速增長。比如，PCB 光刻膠，國產率達到了 63%，濕膜及阻焊油墨基本能實現自給；LCD 光刻膠領域，觸控屏光刻膠正逐步實現國產化替代，目前國產率能到三到四成。光刻膠國產化，進步確實很大。二、與日本的差距看到進步，更要看到差距。從規模上看，2023 年國內光刻膠市場規模約為 121 億元，預計未來 5 年均複合增長率 10%，增長率超過全球平均水平，但規模佔比在全球不到兩成。從類別看，我國光刻膠在高端領域國產化率極低。像是 7nm 技術所需的最高端的 EUV 光刻膠，國產化率樂觀估計也不足 1%。對比日本，差距尤為突出。全球五大光刻膠生產商中，日企獨佔四家，JSR、東京應化、信越化學及富士膠片拿下全球超 70% 的光刻膠市場。特別是在最高端的 ArF 和 EUV 領域，日企市場佔有率超過 90%！<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144407498025.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144407498025.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>日本光刻膠的國際市場份額（2022 年） 不僅是市場份額，日企在光刻膠領域的專利申請量和技術水平在全世界也是遙遙領先。 根據 2021 年 9 月的數據，日本光刻膠專利申請量佔全球該領域專利數量的 46%，一家獨大，排名第二的是美國，佔 25%。中國則僅以 7% 的佔比，排在韓國之後，排名全球第四。2023 年，全球共有 5483 件光刻膠專利，日本獨佔 63%。應該説，在光刻膠領域，中國企業與日企的差距是全方位的。那麼，日本的光刻膠企業為什麼這麼強？網上有很多文章解答過，大多是從起步較早、政府支持、人才培養等角度分析。這裏，正解局不再面面俱到，而是提供一個觀察的視角：壁壘。簡單來説，日本光刻膠企業先建立了技術壁壘，再建立了行業壁壘，最後建立了產業壁壘。先看技術壁壘。早在 1960 年代，日本就組織技術攻關，實現了光刻膠的知識產權自有——東京應化於 1968 年研發出首個環化橡膠系光刻膠產品 MOR-81。到 1970 年代，日本光刻膠已陸續完成商業化，幾大巨頭掌握核心技術。1990 年代開始，繼續突破高端技術，初步構建技術壁壘。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144408664186.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144408664186.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>日企光刻膠技術發展時間線 再看行業壁壘。日本企業背後，大多有財團的影子。化工領域更是日本財團重點佈局的行業。財團之間，關係複雜，並非是完全的競爭關係。表面看上去，日本幾大光刻膠龍頭企業各自獨立。實際上，在不同細分領域側重不同，抱團合作，形成行業壁壘。最後看產業壁壘。光刻膠是關鍵行業的關鍵材料，一旦使用，輕易不會更換。日本光刻膠企業在晶圓生產的初期就介入進來，聯合研發，開發出適配於晶圓廠專門要求的光刻膠。後續實現生產，光刻膠跟晶圓廠的光刻機和生產條件高度匹配，專品專用，不可替代。這樣一來，除非有巨大的不可抗力，晶圓廠不想也不敢換掉日本企業的光刻膠。日本光刻膠企業與下游晶圓廠深度合作，嵌入其全產業生態中，構建起牢不可破的產業壁壘，讓自己的霸主地位極為穩固。三、產業鏈突破中國想要在光刻膠領域掌握主動，打破壟斷，要走的路還很遠。首先還是要加大研發攻關，掌握核心技術。光刻膠本身複雜產線的行業性質，為打破壟斷，縮短與日企的差距，我國企業的研發是多向發力，多點開花。最高端的 EUV 光刻膠主要有兩種類型，一種是化學放大型，另一種是金屬氧化物。今年 4 月，湖北九峯山實驗室與華中科技大學的聯合研究團隊成功突破了 “雙非離子型光酸協同增強響應的化學放大光刻膠” 技術。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144409374572.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144409374572.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>研究團隊發表的論文 這種光刻膠能在曝光後產生更多酸，從而提高成像質量，減小線寬粗糙度，以更高靈敏度和分辨率來適應更先進更復雜的集成電路製造工藝。在新型光刻膠的研發領域，我國科研團隊也在攻關。目前最頂級的 EUV 光刻機中，光刻膠的技術難度之一就是普遍對光源的敏感度不足，這不僅制約了產量，也推高了光刻機及其配套光源的製造難度和成本。去年 10 月，我國清華大學與浙江大學的聯合團隊全球首次提出了 “點擊光刻” 新方法，併成功開發出與之匹配的超高感光度光刻膠樣品。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144409245646.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144409245646.png/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvcG5nL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>團隊發表的論文 這種新型的光刻膠材料，能在極低曝光劑量下實現高對比度成像，大大降低了光刻曝光劑量，提高光刻效率。其次，光刻膠技術儘快產業化。光刻膠行不行，技術突破只是一個方面，不能只看專利和論文，最終還是要看落地到產業的情況。除了前面提到的南大光電和國科天驥等企業之外，中國的光刻膠企業還有不少。在 A 股，目前有約 20 只光刻膠相關的股票，代表着中國光刻膠領域的中堅力量。最後，要建立光刻膠的產業生態。除了技術突破和產業化，分析日本的經驗可知，更重要的是形成自己的產業生態體系——一定要與下游企業深度合作。説得直接點，就是要有自己的光刻機。就像大飛機產業鏈，只有中國自己能造大飛機，能賣大飛機，國產的大飛機零部件才有用武之地，相關的上游產業才能蓬勃發展。否則，僅有技術是沒用的，只能白白拿着技術，轉化不出來，慢慢過時落伍被淘汰。造出自己的光刻機，恰恰是最難的。全球光刻機行業，幾乎是美日企業的天下。荷蘭阿斯麥 ASML 供給了全球 92% 的高端光刻機。<img src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144410435614.jpg/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvanBnL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://img.huxiucdn.com/article/content/202410/23/144410435614.jpg/query-aW1hZ2VWaWV3Mi8yL3cvMTAwMC9mb3JtYXQvanBnL2ludGVybGFjZS8xL3EvODU"/>半導體制造設備市場份額 圖片來源：日經中文網 目前，我國光刻機的國產化率不足 3%，2023 年進口光刻機數量高達 225 台，進口金額高達 87.54 億美元，進口金額創下歷史新高。以產品來説，僅有上海微電子能製造 90nm 工藝節點 DUV 光刻機，與 ASML 差距極大。難度再大，也要上。換個角度看，國產光刻膠的發展，絕不能單打獨鬥，需要產業鏈整體突破。對光刻膠和半導體行業，我們要有信心，更要有耐心。</div>

阿斯麥

中國光刻膠行業正在努力打破國際壟斷，儘管取得了顯著進展，但與日本相比仍存在較大差距。光刻膠是芯片製造的關鍵材料，廣泛應用於顯示面板、集成電路等領域。中國政府自 “十二五” 以來積極支持光刻膠的國產化，力求提升技術水平和市場競爭力。

中國光刻膠，該如何突圍？