據報道援引消息人士稱,三星電子將從 ASML 引進首台 High-NA EUV 光刻機 EXE:5000,預計 2025 年初到貨。半導體設備安裝通常需要較長測試時間,該光刻機預計最快 2025 年中旬開始運行。High-NA EUV 為 2 納米以下先進製程所需設備,韓國業界預期,三星也將正式啓動 1 納米芯片的商用化進程。