近日，日本光學巨頭尼康（Nikon）發佈了其歷史上最為慘烈的虧損預警——預計 2025 財年將出現 850 億日元的鉅額虧損，創下公司自 1917 年創立以來的百年最差紀錄。

其核心的光刻機業務遭遇全線潰敗，讓昔日光刻霸主正陷入空前生存危機。

援引多處報道顯示：過去半年，尼康光刻機僅出貨 9 台，且全部為技術含量較低的成熟製程老款設備，技術代際明顯滯後。

這意味着，這家曾經與英特爾、AMD 深度綁定、制定行業標準的王者，在先進製程領域已徹底失去競爭力。尼康不僅未能承接住這一波 AI 算力爆發的紅利，反而因訂單大幅萎縮和庫存積壓，陷入了前所未有的財務泥潭。

與之形成刺眼對比的是，2025 年荷蘭 ASML 狂賣 327 台，僅高端 EUV 光刻機就出貨 48 台，佔據全球高端市場絕對主導地位。

一個時代的轉折點

曾與 ASML、佳能並稱 “光刻機三巨頭” 的尼康，2001 年時還佔據全球光刻機市場約 40% 份額，全球幾乎每兩台光刻機中就有一台產自尼康。這家當時被芯片巨頭們競相追捧的對象，如今市佔率已跌至個位數，市場競爭力幾近歸零。

從巔峯到谷底，尼康的墜落並非一夜之間。它的命運轉折，恰好映照出全球光刻機市場三十來年的風雲變幻，也向業界拋出一個殘酷的問題：當行業老大一騎絕塵，曾經的王者該如何自處？當技術路線被對手鎖死，後來者還有沒有翻盤的機會？

從巔峯到谷底，尼康的潰敗之路

尼康光刻機的 “黃金時代”

要理解尼康的隕落，得先回到它的光輝歲月。

尼康的光刻機業務起步於上世紀 70 年代，依託其在相機鏡頭領域的核心技術優勢，快速切入半導體光刻設備市場。

彼時，全球半導體產業正處於快速崛起的初期，芯片製程從微米級向納米級逐步邁進，光刻設備作為芯片製造中最核心、最複雜的設備，成為各大企業爭奪的焦點。

憑藉精準的市場判斷和領先的光學技術，尼康迅速在光刻機市場站穩腳跟，並在上世紀 80 年代迎來爆發。

當時，尼康推出的 193nm 波長乾式光刻機，憑藉超高的分辨率和穩定性，成為全球芯片廠商的首選設備，一舉主導了 193nm 乾式光刻時代的市場。

據行業數據顯示，在 1990 年代中期，尼康的光刻機全球市場份額一度突破 50%，與佳能平分秋色，兩者合計佔據全球光刻機市場 90% 以上的份額，形成了 “日企雙雄” 壟斷的格局。

這一時期的尼康，最核心的競爭力在於與全球頂尖芯片企業的深度綁定。

當時，英特爾、AMD 等美國芯片巨頭，正全力推進 CPU 製程的升級，而尼康的光刻機，憑藉穩定的性能的領先的技術，成為這些企業的核心供應商。尼康為英特爾量身定製的光刻設備，完美匹配其 CPU 的生產需求，幫助英特爾在與 AMD 的競爭中佔據優勢。

據悉，從英特爾、AMD、IBM 到德州儀器，全球芯片巨頭為了求得一台尼康光刻機，不惜成立對接團隊常駐尼康硅谷分部，只為爭取優先供貨權。坊間甚至流傳，有半導體老闆親赴尼康工廠蹲點，預付全款只為求一個調試名額。這種深度綁定，也讓尼康獲得了穩定的訂單和豐厚的利潤，進一步鞏固了其行業地位。

除了綁定美國巨頭，尼康在日本本土也擁有強大的客户基礎。索尼、東芝、日立等日本半導體企業，均是尼康的核心客户，這種 “本土協同” 的優勢，讓尼康在全球市場中如虎添翼。

在巔峯時期，尼康的光刻機不僅是技術的標杆，更是行業標準的制定者，其推出的光刻技術規範，被全球多數芯片廠商採納。

在尼康的鐵騎之下，美國光刻機鼻祖 GCA 被迫宣告破產；彼時的 ASML，也還只是一個在歐洲市場掙扎、市場份額不足 10% 的小廠商，根本無法與尼康相提並論。

在當時，尼康可謂風光無限，其輝煌程度甚至超過如今的 ASML。

光刻業務成為集團的核心盈利支柱，帶動相機、望遠鏡等其他業務共同發展，尼康也一度成為日本製造業的驕傲，被視為技術立國的典範。

沒有人會想到，這樣一個站在行業頂端的王者，會在短短二三十年後，陷入如此艱難的境地。

三重失誤，一步步錯失時代浪潮

轉折發生在 2002 年。

那一年，時任台積電資深處長的林本堅，敲開了尼康的大門。針對當時 193nm 乾式光刻機遭遇瓶頸、下一代 157nm 光源研發進展緩慢的局面，林本堅提出了一個顛覆性設想：在鏡頭與晶圓之間注入一層水。利用水的折射率，可以將 193nm 光源的等效波長縮短至 134nm，從而繞過 157nm 路線的諸多難題。

這就是後來改變半導體歷史的浸沒式光刻技術路線。

這本來是一條成本更低、效果更好的捷徑，卻遭到尼康幾乎所有高管的反對。從會長到技術帶頭人，甚至沒有人有耐心細聽林本堅的解釋。尼康的代表當場質問：“如果水污染了鏡頭，你們台積電賠得起嗎？如果氣泡導致批量報廢，這個責任誰擔？”

更深層的原因在於路徑依賴。當時尼康已經在 157nm 乾式光刻機上投入了超過數億美元。轉攻浸沒式路線，意味着此前投入全部打水漂。

據華商韜略報道：尼康不僅拒絕了林本堅，甚至試圖利用自己的行業威望來封殺這個構想。據林本堅後來回憶，尼康高層曾給台積電研發副總蔣尚義打電話稱：“請管好你們的林本堅，不要讓他到處推銷這種破壞行業共識的構想，這會讓大家分心並浪費資源。”

在尼康碰壁後，林本堅飛往荷蘭。

彼時的 ASML 尚在夾縫中求生，急需破局機會。ASML 的技術靈魂馬丁·範登布林克（Martin van den Brink）力排眾議，將 ASML 所有資源押注在這個瘋狂的想法上。

2004 年，ASML 與台積電合作推出世界上第一台浸潤式光刻機 ArFi，憑藉更高的精度和更低的成本橫掃全球市場。

2007 年，ASML 市佔率突破 60%，首次形成碾壓態勢；2010 年後，ASML 市佔率突破 70%，尼康、佳能被徹底拉開差距。

尼康引以為傲的頂級鏡頭，在新的技術路線面前瞬間失色。尼康和佳能被迫放棄 157nm 路線轉而跟進浸沒式，但早已為時過晚。在浸沒式 ArF 光刻領域，ASML 憑藉其成熟的 TWINSCAN 雙工件台技術已牢牢掌握九成以上的市場份額。

這是一場教科書級的技術誤判。尼康並非沒有技術能力，而是被自己的成功經驗禁錮，對體系之外的新技術有一種天然的排斥。

然而，浸沒式的失利只是開始，尼康真正的 “滑鐵盧” 還在後面。

面對浸沒式光刻機戰役的慘敗，尼康將希望寄託於下一代技術：EUV（極紫外光刻）。這種波長更短（13.5nm）、能夠在芯片上雕刻更微小電路的技術，被其視為重返巔峯的關鍵一役。

時任尼康光刻機技術負責人的馬立稔和，立下雄心壯志：全自研、全日本產。他試圖在封閉的牆內，復刻那個精密製造征服世界的時代。

同時，已失去芯片霸主地位的日本政府也傾力支持，將其視為國運之戰。以經濟產業省為主導，日本構建了一個龐大的 “產官學” 聯合體，投入數百億日元資金，聯合尼康、佳能、東京電子、信越化學等產業鏈企業，共同攻關。

這是一次典型的日本式衝鋒：資源集中，目標單一。

但此時，世界已經變了。

就在尼康傾力 EUV 項目的 2012 年，ASML 接到了來自英特爾、三星、台積電的首次大規模戰略投資。三大客户共同出資，幫助 ASML 加速研發 EUV，同時建起了自己的 EUV 聯盟。這個聯盟不僅捆綁了全球最頂尖的芯片製造商，還集結了德國蔡司（鏡頭）、美國 Cymer（光源）等全球最強的產業鏈企業。

這種"垂直合作"模式讓 ASML 能夠集中資源於系統集成與核心技術突破，而非面面俱到。

這也是尼康失敗的深層原因之一。

長期以來，日本企業篤信全自研的生產模式，核心零部件（透鏡、光源、精密機械）均選擇高度自研。這種 “垂直整合” 在技術迭代慢的時代能保證極致品質，但當 EUV 這種需要全球高度協作的行業，研發費用動輒百億美金、涉及 10 萬個零部件的 “人類工業巔峯” 到來時，尼康發現，它早已無力支付這張入場券。而 ASML“利益捆綁、風險共擔” 的選擇了使其走向了完全不同的道路。

更要命的是，曾經在芯片上吃過日本大虧的美國，以國家安全為由，將尼康、佳能等日系廠商排除在 EUV 技術聯盟之外，切斷了它們獲取美國頂尖技術的通道。

至此，尼康的 “全自研”，變成了 “閉門造車”。

截止 2018 年，尼康在 EUV 項目上的投資據估算超過千億日元，堪稱公司歷史上最大單筆技術押注。但這筆投入換來的，僅是一台無法商用的原型機。當 ASML 的 EUV 光刻機早已在台積電產線上瘋狂迭代時，尼康的原型機依舊在實驗室吃灰。

當 2018 年台積電宣佈 7nm 製程量產時，ASML 憑藉 EUV 壟斷了全球 90% 的高端光刻機訂單，形成沒有替代品的技術霸權。

最終，尼康公司不得不宣佈：終止 EUV 光刻機的商業化開發。

除了技術路線的連環誤判，尼康在市場策略上也犯下致命錯誤。它過度押注單一巨頭英特爾。2024 年，英特爾因鉅額虧損大幅削減資本開支，直接導致尼康訂單暴跌。同時，尼康未能及時拓展台積電、三星等核心芯片廠商，訂單缺口無從填補。

外部政策環境更是雪上加霜。過去五年，中國曾是尼康最大的"救命稻草"。隨着大陸晶圓廠擴產，尼康精密設備對華銷量佔比一度超過 40%。

然而，在美國對中國實施半導體設備出口管制時，尼康選擇了緊跟美國步伐，放棄合作機會，導致尼康設備交付延誤、成本飆升，中國客户紛紛轉向國產替代，進一步擠壓其生存空間。《日經亞洲》曾對此指出，中國已成全球第三個擁有完整光刻機制造能力的國家，尼康再想憑高價舊款分羹，早已錯失良機。

2025 年 9 月，尼康關閉了運營 58 年的橫濱工廠，標誌着其光刻機業務進一步收縮。而 70 歲的馬立稔和即將卸任。從技術帶頭人一路走到權力巔峯，這位尼康老將曾試圖以一己之力挽回昔日榮光，但終究力有不逮。

ASML：從 “守成” 到 “進攻”

在尼康一步步走向潰敗的同時，ASML 則從一個行業追隨者，已成長為全球光刻機市場的絕對霸主。

在高端光刻機領域。ASML 的壟斷地位無人能及。尤其是 EUV 光刻市場，ASML 更是一家獨大，掌控着 7nm 及以下先進製程芯片製造的 “咽喉”，無論是台積電、三星，還是英特爾，都依賴 ASML 的 EUV 光刻機。

據統計，ASML 在 EUV 光刻機市場的份額達到 100%，在高端 DUV 光刻機市場的份額也達到 90% 以上，形成了堅實的技術壁壘和市場護城河。這構成了它的 “現金牛” 和壟斷根基。

但ASML 並未止步於此。

隨着摩爾定律逼近物理極限，單純依靠晶體管微縮來提升芯片性能的成本越來越高，難度越來越大。產業界將目光投向了另一個方向：先進封裝。

隨着芯片製程不斷逼近物理極限，先進封裝技術成為提升芯片性能的重要路徑。這正是英偉達的 H100/B200 等 AI 芯片所依賴的核心技術——台積電 CoWoS、InFO 等封裝技術的重要性由此凸顯。

ASML 敏鋭地意識到：僅控制 “前道製造”，或許已不足以主導未來。如果能夠在先進封裝設備領域佔據優勢，就能夠從 “前道製造” 延伸至 “後道封裝”，實現對整個芯片製造流程的掌控，進一步擴大自己的市場份額，鞏固行業霸權。

於是，ASML 轉向 “進攻”，開始向先進封裝設備領域進行佈局和探索。

正可謂，當對手還在泥潭時，贏家已經開始重新定義新戰場。

2025 年 10 月，ASML 邁出實質性步伐，推出首款先進封裝光刻機 TWINSCAN XT:260，正式進軍先進封裝市場。

這款設備採用 365nm i 線光源，實現 400nm 分辨率圖案化，主要應用於 RDL、TSV 等關鍵工序。其套刻精度達±1.2nm，較前代提升 52%，生產效率達每小時 270 片晶圓，較前代提升 4 倍。

TWINSCAN XT:260 的推出，標誌着 ASML 正式進入先進封裝設備市場，而其憑藉光刻設備領域積累的技術優勢和品牌影響力，迅速獲得了市場的認可。據業內消息，台積電、三星等核心客户已經紛紛下單，訂購 ASML 的先進封裝光刻機，用於其 Chiplet 技術的研發和量產。

但這或許只是開始。

近日，據業內人士消息透露，ASML 已着手研發混合鍵合機台，並攜手 EUV 光刻機磁懸浮系統組件供應商 Prodrive、VDL-ETG 等合作伙伴聯合推進。混合鍵合是下一代 3D 集成的核心技術，能夠實現銅對銅的直接鍵合，省去凸塊，大幅提升互聯密度。

能看到，ASML 正試圖將光刻機的技術壁壘——精密對準、高精度運動控制——複製到後道設備，搶奪原本屬於 Besi、應用材料等設備廠商的蛋糕。

ASML 首席技術官 Marco Pieters 此前曾公開表示，公司會持續研判半導體行業的長期發展趨勢，重點關注封裝、鍵合等領域所需的設備基座研發，為佈局相關業務做好技術儲備。

ASML 的出擊釋放出一個明確信號：設備巨頭之間的戰爭，已從單一工序演變為對整個芯片製造流程的鏈式競爭。誰能提供從前道到後道的系統級解決方案，誰就能在下一輪產業洗牌中掌握更大話語權。

佳能：偏安一隅，在夾縫中尋找 “奇點”

在尼康潰敗、ASML 稱霸的格局下，佳能選擇了第三條路。

作為三巨頭之一，佳能同樣錯失了 EUV 時代。但它沒有像尼康那樣在高端市場硬碰硬，佳能很清楚，在波長競賽上它已無法追上 ASML，而是務實轉身，聚焦差異化生存。

一方面，佳能深耕成熟製程光刻機市場。依託在光學領域的積累，佳能提供高性價比的產品，穩守 i-line、KrF 等成熟製程市場這一基本盤，使其在二、三線晶圓廠中擁有極高的忠誠度。雖然技術層級低於 ASML 的 EUV 和 ArFi 設備，但佳能穩守利基市場，在功率器件、傳感器、顯示驅動、先進封裝等成熟製程領域活得滋潤。

另一方面，佳能正在進行一場新的探索：納米壓印（NIL）。

這項技術的原理與光學光刻完全不同，NIL 不使用複雜的光學系統將圖案投影到晶圓上，而是像蓋章一樣，直接將帶有電路圖案的模板壓印在晶圓的光刻膠上，再用紫外線固化。

理論上，納米壓印優勢顯著：分辨率可媲美甚至超越 EUV，成本僅為 EUV 系統的十分之一，單片製程成本約為 EUV 的四分之一；能耗更是降低九成以上——EUV 整機功率可達 1 兆瓦，而 NIL 僅需約 100 千瓦。

佳能於 2014 年收購了納米壓印公司 Molecular Imprints Inc.，推出自有技術品牌 J-FIL。2023 年 10 月，佳能正式推出 FPA-1200NZ2C 納米壓印光刻系統，宣稱可用於生產 5nm 芯片，未來甚至有望下探至 2nm。SK 海力士已從佳能引進納米壓印設備，計劃用於 3D NAND 閃存量產。

這是對 EUV 體系的徹底繞過，如果納米壓印能在對缺陷率包容度較高的存儲芯片領域率先大規模量產，佳能或將能直接改寫遊戲規則。

然而，納米壓印的商用之路依然佈滿荊棘，模板壽命與缺陷控制是該技術面臨的兩大核心難題。

由於模板直接接觸晶圓，其上的納米級結構極其脆弱。目前量產測試顯示，模板壽命僅能支撐壓印約 50 片晶圓，遠不及光學掩模的 10 萬片級壽命。佳能聲稱新設計可延長十倍，但業界實測仍不理想。

更致命的是缺陷複製問題：模板上任何微小缺陷都會被複制到所有晶圓上，造成嚴重的重複缺陷。而要檢測模板缺陷，所需設備產能相當於全球掩模檢測設備一整年的供應量，經濟效益明顯不符。

此外，NIL 的套刻精度與產能仍落後 ASML 的 EUV 系統。由於佳能採用單晶圓台架構，無法同時執行測量與壓印，最高產能僅約每小時 25 片晶圓。

正如業界形容：“NIL 就像一隻設計完美的精密鐘錶，性能與成本都遠勝競品，但關鍵齒輪卻是玻璃制的——看似完美，卻撐不過實際運轉。”

佳能顯然意識到這一點，仍在持續投入研發。

2026 年 1 月，佳能宣佈在世界上首次開發並實際應用了一種名為 IAP（噴墨自適應平坦化）的突破性晶圓平坦化技術，利用納米壓印技術積累，可將 300mm 晶圓表面的地形起伏控制在 5nm 以內，計劃 2027 年商用。這可以視為納米壓印技術的衍生應用，繞開核心難題，先在細分領域尋找突破口。

佳能的路徑給行業一個啓示：當主流技術路線已被巨頭壟斷，後來者未必需要正面硬剛。在夾縫中尋找技術奇點，圍繞長尾客户構建差異化競爭力，同樣可以贏得生存空間。

覆盤與啓示：光刻機戰場的規則變了

覆盤全球光刻機三巨頭的發展路徑，不難發現，如今的光刻機市場，已經形成了 “ASML 稱王，佳能偏安，尼康掉隊”的格局。

三家企業的命運沉浮，折射出全球光刻機行業的深刻變革，釋放出諸多值得深思的信號，也為行業內的其他企業，提供了寶貴的啓示。

企業基因的博弈

尼康和佳能的困境，在很大程度上反映了日本製造業在面臨顛覆式技術變革時的共性問題——路徑依賴與完美主義。

日本企業在技術研發上，往往追求極致的完美，一旦投入資源研發某一種技術路線，就很難輕易放棄，這種 “路徑依賴”，讓其在面對新的技術浪潮時，難以快速調整戰略，最終錯失機遇。

尤其是在顛覆性技術面前，過往的成功經驗往往是最大的包袱。

尼康在浸沒式技術面前的遲疑，本質上是對自身 “垂直整合” 模式的自信——核心部件全部自研，才能保證絕對品質。但當光刻機的複雜程度呈指數級上升時，這種封閉體系反而成為創新阻礙。沒有任何一家公司能夠獨自掌握所有尖端技術。

ASML 的成功，恰恰得益於其開放與協作。

ASML 敏鋭地捕捉到技術變革的趨勢，快速調整技術路線，與全球頂尖供應商展開深度合作，構建了龐大的產業鏈生態。這種開放的協作模式，讓 ASML 能夠集中精力專注於核心技術的整合與優化，同時藉助全球資源，快速提升產品性能，降低研發成本，最終實現了行業壟斷。這種開放協作建立的生態系統優勢，或許比單打獨鬥更難被複制。

這背後，是企業基因的差異。日本企業的 “垂直整合” 基因，強調自給自足、精益求精，在技術相對穩定的時代，能夠發揮優勢；但在技術快速迭代、複雜度不斷提升的今天，這種基因反而成為創新的阻礙。ASML 的開放協作基因，強調資源整合、靈活應變，更適應新時代的行業發展趨勢。

此外，ASML 的成功，還得益於其持續創新的基因。在壟斷高端光刻機市場後，ASML 並沒有固步自封，而是敏鋭地捕捉到先進封裝技術的機遇，加速跨界佈局，從單一的光刻設備供應商，向全流程半導體設備供應商轉型，持續擴寬自己的護城河。

不過，佳能在錯失機遇後，相比尼康展現出更強的戰略靈活性。它沒有固守傳統光刻技術，而是聚焦差異化選擇，探索新路徑，發展長尾客户，在夾縫中獲得了自己的生存空間。這種"知進退"的智慧，值得其他非頭部廠商借鑑。

競爭維度升維：從 “單機” 到 “生態”

光刻機的戰爭暫時可能已經結束，但半導體設備的戰爭才剛剛開始。

ASML 向先進封裝的擴張，標誌着設備巨頭之間的競爭維度已經升級。當光刻機市場的勝負已定，ASML 開始利用其在精密對準、高精度運動控制領域的技術壁壘，向後道設備延伸，試圖構建從 “前道製造” 到 “後道封裝” 的全流程解決方案。

據 Yole Group 預測，全球先進封裝市場規模將從 2024 年的 380-460 億美元增長至 2030 年的 790-800 億美元，年複合增長率達 9.4%-9.5%。

這一增量市場，將成為設備巨頭們爭奪的新戰場。

這也意味着，未來的半導體設備市場，競爭將不再是單點突破，而是系統級的技術整合能力，將從單一環節開始向全流程佈局轉型。誰能提供更完整的解決方案，幫助客户降低系統複雜度、縮短上市週期，誰就能在下一輪競爭中佔據主動。

另外還值得注意的是，地緣政治因素也將深刻影響未來半導體設備市場的格局。近年來，全球半導體產業的地緣政治博弈日益激烈，出口管制、技術封鎖等措施，不僅影響了企業的發展，也改變了行業的供應鏈格局。未來，企業在制定戰略時，也要充分考慮地緣政治因素，構建多元化的供應鏈，降低經營風險。

寫在最後

尼康的倒下，更像一個警鐘，提醒所有科技企業：在這個由資本和技術雙重驅動的殘酷行業裏，沒有永遠的王者，只有時代的適應者。

尼康並非沒有技術，也並非沒有資金。它輸在對新趨勢的誤判，輸在封閉體系的慣性，輸在未能及時調整客户結構的遲緩。當技術路線轉向時，昔日的資產可能瞬間變成負債。

ASML 的今天，源於二十年前那次擁抱浸沒式技術的果敢，源於構建全球開放生態的戰略遠見。但歷史已經證明，霸權往往是衰落的前奏。當 ASML 從光刻機霸主向 “全產業鏈整合者” 擴張時，它也在面臨新的風險：技術複雜度的進一步攀升、地緣政治的不確定性、以及潛在顛覆性技術的威脅。

據中商產業研究院預測，2026 年全球光刻機市場規模預計將達 392 億美元。在這個規模巨大且快速膨脹的賽道上，遊戲規則已然改寫，技術範式的轉換、商業模式的創新、生態系統的博弈，隨時可能顛覆既有格局。

唯一確定的是，半導體產業的競爭永遠不會停歇。唯有保持開放、擁抱變革，以及對時代變遷始終保持敬畏的企業，才能在下一次技術浪潮中存活下來。

尼康的潰敗，是一曲舊時代的輓歌；而 ASML 的擴張與佳能的探索，則是新戰局的序章。光刻機的故事遠未結束，它只是翻到了更復雜、更殘酷的一頁。

光刻機巨頭，轟然 “倒塌”