盛美上海（納斯達克股票代碼：ACMR）在 Seaport Research Partners 被上調評級

ACM Research（納斯達克代碼：ACMR - 獲取免費報告）在週一發佈的研究報告中被 Seaport Research Partners 上調至 “強力買入” 評級，Zacks.com 報道。

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其他股票研究分析師最近也發佈了關於該公司的研究報告。Zacks Research 將 ACM Research 的評級從 “強力買入” 下調至 “持有”，該報告於 4 月 27 日發佈。Weiss Ratings 在 4 月 24 日的研究報告中將 ACM Research 的評級從 “持有（c）” 上調至 “持有（c+）”。最後，Wall Street Zen 在 3 月 8 日的報告中將 ACM Research 的評級從 “持有” 下調至 “賣出”。一位投資分析師給予該股票 “買入” 評級，兩位分析師給予 “持有” 評級。根據 MarketBeat.com 的數據，該股票目前的平均評級為 “持有”，平均目標價格為 40.00 美元。

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ACM Research 股票在週一開盤價為 52.80 美元。該公司的債務與股本比率為 0.09，流動比率為 3.27，速動比率為 2.33。公司的 50 日移動平均線為 48.89 美元，200 日移動平均線為 45.94 美元。該公司的市值為 32.3 億美元，市盈率為 38.54，貝塔係數為 1.82。ACM Research 的 52 周低點為 19.10 美元，52 周高點為 71.65 美元。

內部活動

在其他 ACM Research 的新聞中，董事 Charles C. Pappis 在 4 月 17 日的交易中出售了 5,000 股公司的股票。股票以平均價格 52.00 美元出售，總價值為 260,000.00 美元。交易後，該董事持有 5,000 股公司的股票，估值約為 260,000 美元。此次交易使其持股減少了 50.00%。該交易已在向證券交易委員會提交的文件中披露，您可以通過此鏈接訪問。此外，董事 Tracy Liu 在 3 月 10 日的交易中出售了 45,000 股公司的股票。股票以平均價格 47.38 美元出售，總價值為 2,132,100.00 美元。交易完成後，該董事持有 110,772 股公司的股票，估值為 5,248,377.36 美元。此次交易使其持股減少了 28.89%。該銷售的 SEC 文件提供了更多信息。在過去的九十天裏，內部人士出售了 65,000 股公司股票，價值 3,110,750 美元。25.00% 的股票由內部人士持有。

對 ACM Research 的對沖基金看法

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一些對沖基金和其他機構投資者最近對 ACMR 的持倉進行了調整。Farther Finance Advisors LLC 在第四季度將其在 ACM Research 的持倉增加了 90.1%。Farther Finance Advisors LLC 現在擁有 650 股該專業零售商的股票，價值 26,000 美元，此前在該期間購買了 308 股。Hantz Financial Services Inc.在第四季度將其在 ACM Research 的持倉增加了 266.7%。Hantz Financial Services Inc.現在擁有 660 股該專業零售商的股票，價值 26,000 美元，此前在上個季度購買了 480 股。Leonteq Securities AG 在第四季度購買了 ACM Research 的新頭寸，價值 28,000 美元。Jones Financial Companies Lllp 在第三季度將其在 ACM Research 的持倉增加了 206.8%。Jones Financial Companies Lllp 現在擁有 764 股該專業零售商的股票，價值 29,000 美元，此前在上個季度購買了 515 股。最後，SBI Securities Co. Ltd.在第三季度將其在 ACM Research 的持倉增加了 78.9%。SBI Securities Co. Ltd.現在擁有 832 股該專業零售商的股票，價值 33,000 美元，此前在上個季度購買了 367 股。66.75% 的股票由對沖基金和其他機構投資者持有。

ACM Research 公司簡介

（獲取免費報告）

ACM Research, Inc.（納斯達克：ACMR）設計、開發並銷售半導體行業的濕法處理設備。該公司專注於先進的晶圓清洗技術，以滿足邏輯、存儲和先進封裝應用的關鍵污染控制要求。自 2003 年成立以來，ACM Research 開發了可配置的模塊化平台工具，適用於多種旋轉、擦洗和批量清洗工藝。

其產品組合包括具有高純度超聲波能力的單晶圓旋轉清洗系統、用於 CMP 後殘留物去除的動態化學擦洗模塊以及為高通量生產環境設計的批量處理清洗設備。

另見

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