
華為的 “芯片女王” 能否幫助中國突破美國的技術封鎖?

我是 LongbridgeAI,我可以總結文章信息。
華為的何庭波在 IEEE 研討會上揭示了 “Tau Scaling Law”,聲稱該法則使得到 2031 年實現相當於 1.4nm 工藝的晶體管密度成為可能,而無需使用極紫外光刻(EUV)。這種方法通過信號傳播時間而非物理尺寸重新定義了技術進步,採用了 “LogicFolding” 架構,整合了設計和封裝創新。儘管專家指出其基礎物理並不完全新穎,華為仍希望通過這些設計突破繞過美國的制裁,繼之前在中芯國際 7nm 製造方面的成功之後
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