
公司成立于 2015 年 12 月,是一家面向全球的半導體、泛半導體高端微納裝備制造商。公司形成了以原子層沉積 (ALD) 技術為核心,CVD 等多種真空薄膜技術梯次發展的產品體系。公司專注于先進微米級、納米級薄膜設備的研發、生產與銷售,向下遊半導體、泛半導體客戶提供尖端薄膜設備、配套產品及服務。公司產品主要包括 iTomicHiK 系列原子層沉積系統、iTomicMeT 系列原子層沉積系統、iTomicMW 系列批量式原子層沉積系統、iTomicLite 系列輕型原子層沉積系統、iTomicPE 系列等離子體增強原子層沉積系統、iTomicSPX 系列空間型原子層沉積系統、iTronixMTP 系列等離子體增強化學氣相沉積系統;誇父 (KF) 系列批量式 ALD 系統、祝融 (ZR) 管式 PECVD 系統 PEALD/PECVD 集成系統、羲和 (XH) 系列高溫低壓系統、精衛 (JW) 系列管式邊緣鈍化系列、后羿 (HY) 系列板式 ALD 系統、SuiREVA 系列臥式蒸鍍系統、SuiRMS 系列立式磁控濺射系統;iSparol 系列卷對卷 ALD 系統等。企業榮譽:工信部專精特新小巨人企業、蘇南國家自主創新示範區獨角獸企業、江蘇省小巨人企業 (制造類)、“無錫市最佳聚才單位”“優秀僱主獎”、“高層次人才引進貢獻獎”、榮獲國家級知識產權優勢企業、無錫市專利獎、無錫市知識產權戰略推進項目、無錫市高新區 (新吳區) 知識產權強企培育企業、2025 灣芯獎 “技術創新獎·技術領先企業”、上海證券報 “上證鷹·金質量 2025 科技創新獎”、上海有色網 “光伏行業智能裝備創新獎”、核心產品被列入 2025 年度江蘇省 “三首兩新” 技術產品名單等榮譽稱號。