公司成立于 2010 年，是國內稀缺的獨立第三方半導體掩模版廠商。自 2024 年 8 月公司完成科創板掛牌上市以來，公司不斷增加投入進行技術攻關和產品迭代，半導體掩模版工藝能力從 130nm 逐步提升至 65nm，並已完成 40nm 工藝節點的生產設備布局，產品廣泛應用于信號鏈及電源管理 IC 等成熟制程，以及功率器件、MEMS 傳感器、先進封裝等特色工藝制程。公司主營業務為半導體掩模版的研發、生產和銷售。公司主要產品為掩模版。