知情人士透露，這台 EUV 光刻機是由一組來自荷蘭芯片設備巨頭$阿斯麥(ASML.US)的前工程師團隊打造，通過逆向工程仿製 ASML 的 EUV 機。目前這台中國 EUV 光刻機已能運行併成功產生極紫外光，但尚未生產出可用的芯片。

據報道，中國政府的目標是在 2028 年前實現原型機芯片生產，部分專家則估計有可能到 2030 年才實現量產，仍比外界認為的「至少 10 年」大幅提前。