智通财经 APP 获悉，民生证券发布研报称，根据 SEMI、CEMIA 数据，全球半导体掩模版市场规模有望在 2025 年达到 60.79 亿美元，同比增长 7%。中国内地半导体掩模版市场规模快速增长，从 2017 年的 9.12 亿美元增至 2022 年的 15.56 亿美元，2017-2022 年复合增速达到 11.3%。随着中国内地在先进制程领域不断突破，掩模版市场规模有望进一步扩大，为国产厂商带来巨大机遇。空白掩模版作为光掩模版的主要成本项，其国产化对整个半导体产业链自主可控具有重要意义。<h2>民生证券主要观点如下：</h2>掩模版是半导体材料自主可控的关键一步掩模版是半导体生产制造过程中不可或缺的材料，其基本工作原理是将设计好的电路图形通过光刻刻蚀等工艺绘制在掩模版上，随后将掩模版承载的电路图形通过曝光的方式转移到硅晶圆等基体材料上。半导体掩模版是技术要求最高的掩模版品类，同时也是最大的掩模版应用市场，IC 制造生产占据掩模版下游 60% 的份额，而高端半导体掩模版主要被美国和日韩厂商垄断，因此其国产化突破对国产半导体产业链具备重要战略意义。全球掩模版市场空间广阔，增长动力强劲半导体掩模版作为核心半导体材料之一，2021 年占全球半导体材料市场的 12%，仅次于硅片和电子特气。根据 SEMI、CEMIA 数据，全球半导体掩模版市场规模有望在 2025 年达到 60.79 亿美元，同比增长 7%。中国内地半导体掩模版市场规模快速增长，从 2017 年的 9.12 亿美元增至 2022 年的 15.56 亿美元，2017-2022 年复合增速达到 11.3%。随着中国内地在先进制程领域不断突破，掩模版市场规模有望进一步扩大，为国产厂商带来巨大机遇。空白掩模版是半导体掩模版的核心部件空白掩模版和光掩模版可以类比为拍照前后的胶片。空白掩模版的基本结构是在玻璃面板上镀一层光学薄膜，材料包括铬、硅化钼、氧化硅等。随着半导体技术的发展，需要高清光掩模来形成精细图案，以及与之配套的空白掩模版。空白掩模版是构成光掩模版的主要成本项，根据掩模版制造商龙图光罩招股说明书，2021-2023 年间采购原材料中空白掩模版占比分别为 64%、58%、53%。根据民生证券测算，2024 年全球空白掩模版市场规模约为 18 亿美元，中国内地市场规模约为 4 亿美元。空白掩模版亟待实现国产化突破日本厂商占据全球空白掩模版的主要市场份额，包括 HOYA、信越、AGC 等全球知名电子化学品领域巨头。其中 HOYA 在 EUV 空白掩模版市场占有率占据主导地位，剩余市场被另外一家供应商占据。DUV 空白掩模版市场中，HOYA 同样占据主要份额。其他地区厂商如 S&amp;amp;S Tech、SKC 等韩国厂商也在追赶。中国内地厂商聚和材料拟通过收购韩国 SKE 的相关业务介入空白掩模版领域，弥补国内高端空白掩模版的缺失。空白掩模版作为光掩模版的主要成本项，其国产化对整个半导体产业链自主可控具有重要意义。标的方面建议关注：聚和材料 (688503.SH)(拟通过收购 SKE 布局空白掩模版业务)、龙图光罩 (688721.SH)、路维光电 (688401.SH)、清溢光电 (688138.SH) 等。风险提示技术迭代风险，供应链风险，市场竞争风险。

半导体

清溢光电

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民生证券发布研报指出，全球半导体掩模版市场预计到 2025 年将达到 60.79 亿美元，中国内地市场也在快速增长，2017-2022 年复合增速为 11.3%。掩模版的国产化将降低对国外的依赖，提升产业链的安全性和稳定性，具有重要战略意义。空白掩模版的国产化是实现半导体产业链自主可控的关键一步。

民生证券：半导体掩模版增长动力强劲 空白掩模版亟待实现国产化突破

民生证券：半导体掩模版增长动力强劲空白掩模版亟待实现国产化突破