<p>中微公司周一披露 2025 年年报：</p>
<p>全年实现营业收入 123.85 亿元，同比大增 36.62%；归母净利润 21.11 亿元，同比增长 30.69%。</p>
<p>从节奏看，公司四季度单季收入 43.22 亿元、归母净利 9.00 亿元，均创年内高点，出货与确认节奏在下半年明显加速。</p>
<p>拆结构，增长的 “主引擎” 仍是刻蚀设备：2025 年刻蚀设备销售 98.32 亿元，同比增长 35.12%。更值得关注的是薄膜设备开始 “放量”——LPCVD 设备销售 5.06 亿元，同比暴增 224.23%，公司称多款薄膜新设备获得重复性订单、薄膜设备累计出货量已突破 300 个反应台，第二增长曲线的轮廓正在变得清晰。</p>
<p>公司同步抛出 “现金分红 + 转增” 方案：拟每 10 股派现 3.50 元（含税），合计派现约 2.19 亿元；并每 10 股转增 4.9 股，股本将由 6.26 亿股增至 9.33 亿股。</p>
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<h2 id="f6f7b26b">收入端：四季度 “放量” 托举全年高增长</h2>
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<p>从季度拆分看，2025 年营收逐季抬升：Q1-Q4 分别为 21.73 亿、27.87 亿、31.02 亿、43.22 亿元；归母净利润分别为 3.13 亿、3.93 亿、5.05 亿、9.00 亿元。四季度收入占全年约 35%，体现出半导体设备交付验收与收入确认的季节性特征，也意味着公司在下半年更顺畅地承接了客户扩产与导入节奏。</p>
<p>经营现金流同样呈现 “后程发力”：Q2 经营现金流为-1.74 亿元，但 Q3、Q4 分别转正至 10.95 亿元、9.97 亿元，全年合计 22.95 亿元，显著强于 2023 年（-9.77 亿元）并继续高于 2024 年（14.58 亿元）。对设备公司而言，这通常与交付回款、预收/应收结构改善、供应链与交付效率提升等因素相关。</p>
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<h2 id="lpcvd">业务结构：刻蚀稳底盘，LPCVD 高增速 “接棒”</h2>
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<p>公司在年报中给出了关键品类拆分：</p>
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<li>刻蚀设备：2025 年销售 98.32 亿元，同比 **+35.12%**。公司强调，针对先进逻辑与存储关键刻蚀工艺的高端产品新增付运量显著提升，并在先进逻辑器件、先进存储器件多种关键刻蚀工艺实现 “大规模量产”。</li>
<li>LPCVD 设备：2025 年销售 5.06 亿元，同比 **+224.23%**。这类 “从 0 到 1 再到 N” 的加速，往往意味着从验证走向更广泛的产线导入；公司也披露薄膜设备 “重复性订单” 增加、累计出货反应台突破 300 个。</li>
</ul>
<p>从产业逻辑看，先进逻辑在光刻受限下更依赖多重模板工艺（刻蚀/薄膜步骤增加），叠加 3DNAND 向更高堆叠层数推进、深宽比需求抬升，刻蚀与薄膜沉积的价值量与工艺重要性持续提升。这也是中微近年在 “刻蚀主航道” 之外，加速补齐 LPCVD、ALD、EPI 等薄膜矩阵的根本原因。</p>
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<h2 id="30-69">归母净利润大增 30.69%</h2>
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<p id="1">1）净利率保持强势，研发费用快速上行</p>
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<p>2025 年归母净利润 21.11 亿元，对应归母净利率约 17%；扣非归母净利润 15.50 亿元，扣非净利率约 12.5%。在收入大幅增长背景下，公司仍选择大幅提高研发强度：研发投入 37.44 亿元（营收占比 30.23%）、研发费用 24.75 亿元（同比 +74.61%）。</p>
<p>这种结构意味着两点：</p>
<ul>
<li>短期看，利润表承压来自 “费用端主动进攻”，而非需求端走弱；</li>
<li>中长期看，能否将高研发投入持续转化为客户端验证通过、重复订单与规模化装机，是估值锚与盈利弹性的关键。</li>
</ul>
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<p id="2">2）非经常性损益放大归母口径</p>
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<p>2025 年非经常性损益合计 5.62 亿元（2024 年为 2.28 亿元）。其中较大的项目包括：</p>
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<li>非流动性资产处置损益 4.46 亿元；</li>
<li>金融资产公允价值变动及处置损益 1.77 亿元；</li>
<li>政府补助 0.39 亿元。</li>
</ul>
<p>公司亦披露：以公允价值计量且变动计入当期损益的对外股权投资，2025 年产生的公允价值变动收益和投资收益合计约 6.61 亿元（2024 年约 1.98 亿元）。这解释了为何归母增速显著快于扣非增速——利润结构中 “投资与处置” 对当期贡献更大，投资者在比较年度盈利质量时需要区分。</p>
<p>此外，公司披露口径下，扣非净利润还受到股份支付影响：2025 年股份支付费用 5.13 亿元。若剔除股份支付影响后的扣非归母净利润为 20.63 亿元（2024 年为 18.46 亿元），更接近经营端的利润趋势。</p>
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<h2 id="a842be8d">产品进展与战略动作：先进制程、先进封装、以及 “干法 + 湿法” 拼图</h2>
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<p>年报披露的产品与客户进展，核心指向 “先进制程渗透率提升 + 品类扩张”：</p>
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<li>刻蚀设备（CCP/ICP）：公司称刻蚀设备已覆盖从 65nm 到 3nm 及更先进工艺的众多应用；2025 年 CCP 刻蚀设备单年付运超过 1000 个反应台、累计装机量超过 5000 反应台。ICP 双台机在反应台间刻蚀速度控制精度方面强调达到每分钟 0.2Å级别，并在多种薄膜刻蚀工艺上验证。</li>
<li>薄膜设备：钨系列 CVD/HAR/ALD、金属栅系列 ALD TiN/TiAl/TaN 等推进客户端验证并获取重复订单；EPI 设备进入客户端量产验证阶段。</li>
<li>MOCVD：公司继续强调自 2017 年以来在氮化镓基 LED MOCVD 市场份额领先，并在 Mini-LED、Micro-LED、GaN 功率器件、8 英寸 SiC 外延等方向推进验证。</li>
<li>先进封装：TSV 刻蚀设备在 2.5D/3D 先进封装场景持续获得重复订单，并推进更多平台化设备。</li>
</ul>
<p>更具 “战略信号” 的一笔，是公司拟通过发行股份及支付现金购买资产并募集配套资金的方式，收购杭州众硅电子科技有限公司控股权，意在实现从 “干法” 向 “干法 + 湿法” 整体解决方案跨越。若交易落地，中微将从单点设备竞争，进一步走向 “工艺协同 + 成套导入” 的能力竞争，客户粘性与产线渗透速度理论上都有提升空间，但也将带来并购整合与研发/产品线协同的执行考验。</p>
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<h2 id="ba8b5366">分红与转增：现金回报偏稳健，股本扩张力度大</h2>
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<p>公司拟每 10 股派现 3.50 元（含税），按现有股本测算派现总额约 2.19 亿元。以 2025 年归母净利润 21.11 亿元粗略计算，现金分红比例约一成出头，属于 “稳健回报 + 保留研发与扩产弹药” 的取向。</p>
<p>同时，公司拟每 10 股转增 4.9 股，转增后总股本将由 6.26 亿股增至 9.33 亿股。对二级市场而言，转增本身不改变公司内在价值，但会改变每股指标的呈现方式，也通常反映管理层对中长期业务扩张与资本运作空间的预期。</p>

中微公司

<p>中微公司全年实现营业收入 123.85 亿元，同比大增 36.62%；归母净利润 21.11 亿元，同比增长 30.69%。增长的 “主引擎” 仍是刻蚀设备，全年销售 98.32 亿元，同比增长 35.12%，薄膜设备开始 “放量”——LPCVD 设备销售 5.06 亿元，同比暴增 224.23%。公司拟每 10 股派现 3.50 元（含税），合计派现约 2.19 亿元；并每 10 股转增 4.9 股，股本将由 6.26 亿股增至 9.33 亿股。</p>

中微公司 2025 年营收同比大增 36.6%，归母净利润增长 30.7%，拟每 10 股派现 3.50 元、转增 4.9 股 | 财报见闻