<p>在周四，台积电的联合首席运营官张晓强在北美技术研讨会上表示，公司没有计划购买 ASML 最新的高 NA EUV 光刻机，理由是每台设备的价格超过 3.5 亿欧元，过于昂贵。尽管该设备可以将芯片制造精度提高到低于 1.4 纳米，台积电认为现有的 EUV 系统仍然足以满足生产需求。作为 ASML 最大的客户，台积电的决定可能会影响该公司计划在 2027-2028 年进行的大规模生产推广，以及其 2030 年 600 亿欧元的收入目标。[TechWeb，中文]</p>

台积电

阿斯麦

ASME

<p>台积电联合首席运营官张晓强在北美技术研讨会上宣布，公司将不会购买 ASML 的高 NA EUV 光刻机，单价超过 3.5 亿欧元，认为其价格过于昂贵。台积电认为其现有的 EUV 系统足以满足生产需求。此决定可能会影响 ASML 在 2027-2028 年的大规模生产计划以及其到 2030 年实现 600 亿欧元收入目标的计划</p>

<p>On Thursday, TSMC’s Co-Chief Operating Officer Zhang Xiaoqiang stated at the North America Technology Symposium that the company has no plans to purchase ASML’s latest High-NA EUV lithography machines, citing their price of over €350 million per unit as too high. Although the equipment can improve chip manufacturing precision to below 1.4nm, TSMC believes its existing EUV systems are still sufficient to meet production needs. As ASML’s largest customer, TSMC’s decision could impact the company’s planned large-scale production rollout in 2027–2028, as well as its €60 billion revenue target for 2030. [TechWeb, in Chinese]</p>
<div class="lb-trans"><p>在周四，台积电的联合首席运营官张晓强在北美技术研讨会上表示，公司没有计划购买 ASML 最新的高 NA EUV 光刻机，理由是每台设备的价格超过 3.5 亿欧元，过于昂贵。尽管该设备可以将芯片制造精度提高到低于 1.4 纳米，台积电认为现有的 EUV 系统仍然足以满足生产需求。作为 ASML 最大的客户，台积电的决定可能会影响该公司计划在 2027-2028 年进行的大规模生产推广，以及其 2030 年 600 亿欧元的收入目标。[TechWeb，中文]</p>
</div>

TSMC Exec says ASML €350 million lithography tool too expensive, no purchase planned

- TSMC 计划不购买 ASML 最新的 High-NA EUV 光刻机，因价格过高。  
- 现有 EUV 系统已能满足生产需求，光刻机能提升至 1.4nm 精度。  
- TSMC 决定可能影响 ASML 预计的 2027-2028 年大规模生产及 2030 年 600 亿欧元收入目标。

TechNode

ASML Holding NV

2 倍做多 ASML ETF - Leverage Shares

2 倍做多台积电 ETF - Direxion

标普半导体 ETF - SPDR

2 倍做多 TSM ETF - Leverage Shares

半导体 ETF - VanEck Vectors

ASML Holding NV ADRhedged

费城交易所 半导体 ETF - iShares

2 倍做多 TSM ETF - GraniteShares

半导体 3 倍做多 - Direxion

台积电高管称阿斯麦 3.5 亿欧元的光刻设备价格过高，暂无购买计划