ACM Research

ACM Research, Inc.及其子公司在中国大陆及国际市场上开发、制造和销售资本设备。它还开发、制造和销售一系列包装工具，面向晶圆组装和包装客户。该公司提供前端生产过程的湿清洗设备；电化学镀膜、炉子、PECVD 和轨道平台；用于平面和晶圆表面的空间交替相移技术；及时激活的气泡振荡技术，适用于先进工艺节点的图案化晶圆表面；以及 Tahoe 技术和半关键清洗工具。它还提供先进的包装设备，如涂布机、显影机、光刻胶剥离机、清洗机、湿刻蚀设备和铜镀设备；先进的包装产品包括：Ultra ECP ap，它在包装前为成品晶圆提供均匀的金属层；Ultra C Developer，它将液体显影剂应用于光刻胶的选定部分以解析图像；Ultra C PR Megasonic-Assisted Stripper，它用于去除光刻胶；Ultra C Scrubber，它用于清洗和清洁晶圆；Ultra C Thin Wafer Scrubber，它针对某些亚洲组装工厂的超薄晶圆清洗子市场；以及 Ultra C Wet Etcher，它用于刻蚀硅晶圆和铜、钛互连