
Lam Research Corporation 设计、制造、销售、翻新和服务用于集成电路制造的半导体加工设备,业务遍及美国、中国、韩国、中国台湾、日本、东南亚和欧洲。该公司提供 ALTUS 系统,用于沉积钨或钼金属化应用的符合性或选择性薄膜;SABRE 电化学沉积产品用于铜互连过渡,支持铜大马士革制造;Striker 单片原子层沉积产品用于介电薄膜解决方案;以及 VECTOR 等离子体增强化学气相沉积 (CVD) 产品。它还提供 Akara,一种导体刻蚀系统,旨在提高刻蚀精度、选择性和缺陷控制;Argos、Prevos 和 Selis,这些是用于制造需要在纳米尺度上精确控制的先进逻辑和存储设备的选择性刻蚀系统;Flex 用于介电刻蚀应用;Vantex,一种介电刻蚀系统,提供 RF 技术和通过设备智能解决方案实现的可重复的晶圆间性能;Kiyo 用于导体刻蚀应用;Syndion 用于深硅刻蚀;以及 Versys 金属产品用于金属刻蚀过程。此外,该公司还提供 Coronus 倒角清洁产品,以提高芯片良率,以及 Da Vinci、DV-Prime、EOS 和 SP 系列产品,以满足各种晶圆清洁应用