<p>中微半導體設備以逾三成的營收增速和超過半百億元的研發投入，強化了其在國產半導體設備領域的競爭地位。公司刻蝕設備穩居核心地位，銷售額近百億；薄膜設備增速超 224%，成第二增長極。</p>
<p>27 日，中微半導體設備發佈 2025 年度業績快報：</p>
<blockquote>
<ul>
<li>全年營業收入約 123.85 億元，同比增長約 36.62%；</li>
<li>歸屬於母公司所有者的淨利潤約 21.11 億元，同比增加約 30.69%。</li>
<li>公司同期大幅加碼研發，全年研發投入約 37.44 億元，同比增長約 52.65%，佔營業收入比例達 30.23%。</li>
</ul>
<p><img class=" wscnph" src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/1a378dae-5904-40a4-8094-75a3c51a906a.png?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" width="1024" height="571" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/1a378dae-5904-40a4-8094-75a3c51a906a.png"/></p>
</blockquote>
<p>業績增長由核心刻蝕設備的規模擴張與新品類的快速放量共同驅動<strong>。</strong>其中，<strong>LPCVD 和 ALD 薄膜設備銷售額約 5.06 億元，同比增長約 224.23%，增速遠超刻蝕主業。</strong>公司同時披露，ICP 刻蝕設備的加工精度和重複性已達到單原子水平，標誌着技術突破進入新階段。</p>
<div>
<h2 id="aa72cf48">刻蝕設備保持主引擎地位，薄膜設備高速起量</h2>
</div>
<p>刻蝕設備依然是中微公司的核心收入來源。<strong>2025 年刻蝕設備銷售約 98.32 億元，同比增長約 35.12%，佔全年營收的比重約為 79%。</strong></p>
<p>公司披露，針對先進邏輯器件中段關鍵刻蝕工藝以及先進存儲器件超高深寬比刻蝕工藝，均實現了穩定可靠的大規模量產。至 2025 年底，公司累計已有超過 7,800 個反應台在國內外 170 餘條客户芯片及 LED 生產線全面量產，刻蝕設備反應台全球累計出貨超過 6,800 台。</p>
<p>薄膜設備的高速增長是本期業績的另一亮點。LPCVD 和 ALD 設備銷售額同比增長約 224.23%，公司 CDP 產品部門為先進存儲器件和邏輯器件開發的十多款導體和介質薄膜設備已順利進入市場，LPCVD 設備累計出貨量突破三百個反應台，並且設備性能據公司稱已完全達到國際領先水平。</p>
<div>
<h2 id="985779ca">研發投入高強度擴張，利潤增速因此受壓</h2>
</div>
<p>在營收高增長的同時，公司主動選擇以犧牲短期利潤換取技術積累。2025 年研發費用達 24.75 億元，同比增長約 74.61%；研發總投入約 37.44 億元，同比增長約 52.65%，佔營收比例約 30.23%，公司稱遠高於科創板均值。</p>
<p><strong>公司在公告中將研發投入大幅增加列為淨利潤增速低於營收增速的主要原因之一。盡</strong>管營收增長帶來毛利增量約 11.28 億元，但研發費用同期增長約 10.58 億元，幾乎將毛利增量抵消殆盡，從而壓低了經營利潤的彈性。</p>
<p><img class=" wscnph" src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/608a4957-ccc3-400d-8d5d-599fd042a653.png?x-oss-process=image/auto-orient,1/interlace,1/resize,w_1440,h_1440/quality,q_95/format,jpg" width="1024" height="1001" original-src="https://imageproxy.pbkrs.com/https://wpimg-wscn.awtmt.com/608a4957-ccc3-400d-8d5d-599fd042a653.png"/></p>
<div>
<h2 id="epi-mocvd">新品梯隊持續擴充，EPI 和 MOCVD 進入驗證節點</h2>
</div>
<p><strong>公司在刻蝕和薄膜設備之外，正積極佈局外延設備和化合物半導體領域。</strong>EPI 設備方面，減壓外延設備已付運至成熟製程及先進製程客户進行量產驗證，部分先進工藝已進入量產驗證階段；常壓外延設備現已完成開發，進入工藝驗證階段。新一代高選擇比預清潔腔體也已在客户端進行量產驗證。</p>
<p>MOCVD 設備方面，公司稱持續保持國際氮化鎵基 MOCVD 設備市場領先地位，新型八寸碳化硅外延設備及新型紅黃光 LED 應用設備已付運至國內領先客户開展驗證，多款 Micro-LED 及顯示領域專用 MOCVD 新產品亦進入客户端驗證階段。</p>
<p>支撐上述規模擴張的基礎設施建設亦已到位。公司在南昌約 14 萬平方米以及上海臨港約 18 萬平方米的生產和研發基地均已投入使用。公司表示持續開發關鍵零部件供應商，推動供應鏈穩定安全，設備交付率保持在較高水準。</p>

中微公司

<p>中微公司 2025 年營收約 123.85 億元，同比大增 36.62%。刻蝕設備穩居核心地位，銷售額近百億；薄膜設備增速超 224%，成第二增長極。公司全年研發投入逾 37 億元，同比增長超 52%，雖短期承壓利潤彈性，但在原子級刻蝕及先進製程外延設備領域實現重大技術突破，國產替代能見度進一步提升。</p>

中微公司 2025 年營收 123 億元創新高，淨利潤同增 30.69%，薄膜設備成新增長點 | 財報見聞