<p>在週四，台積電的聯合首席運營官張曉強在北美技術研討會上表示，公司沒有計劃購買 ASML 最新的高 NA EUV 光刻機，理由是每台設備的價格超過 3.5 億歐元，過於昂貴。儘管該設備可以將芯片製造精度提高到低於 1.4 納米，台積電認為現有的 EUV 系統仍然足以滿足生產需求。作為 ASML 最大的客户，台積電的決定可能會影響該公司計劃在 2027-2028 年進行的大規模生產推廣，以及其 2030 年 600 億歐元的收入目標。[TechWeb，中文]</p>

台積電

阿斯麥

ASME

<p>台積電聯合首席運營官張曉強在北美技術研討會上宣佈，公司將不會購買 ASML 的高 NA EUV 光刻機，單價超過 3.5 億歐元，認為其價格過於昂貴。台積電認為其現有的 EUV 系統足以滿足生產需求。此決定可能會影響 ASML 在 2027-2028 年的大規模生產計劃以及其到 2030 年實現 600 億歐元收入目標的計劃</p>

<p>On Thursday, TSMC’s Co-Chief Operating Officer Zhang Xiaoqiang stated at the North America Technology Symposium that the company has no plans to purchase ASML’s latest High-NA EUV lithography machines, citing their price of over €350 million per unit as too high. Although the equipment can improve chip manufacturing precision to below 1.4nm, TSMC believes its existing EUV systems are still sufficient to meet production needs. As ASML’s largest customer, TSMC’s decision could impact the company’s planned large-scale production rollout in 2027–2028, as well as its €60 billion revenue target for 2030. [TechWeb, in Chinese]</p>
<div class="lb-trans"><p>在週四，台積電的聯合首席運營官張曉強在北美技術研討會上表示，公司沒有計劃購買 ASML 最新的高 NA EUV 光刻機，理由是每台設備的價格超過 3.5 億歐元，過於昂貴。儘管該設備可以將芯片製造精度提高到低於 1.4 納米，台積電認為現有的 EUV 系統仍然足以滿足生產需求。作為 ASML 最大的客户，台積電的決定可能會影響該公司計劃在 2027-2028 年進行的大規模生產推廣，以及其 2030 年 600 億歐元的收入目標。[TechWeb，中文]</p>
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TSMC Exec says ASML €350 million lithography tool too expensive, no purchase planned

- TSMC 計劃不購買 ASML 最新的 High-NA EUV 光刻機，因價格過高。  
- 現有 EUV 系統已能滿足生產需求，光刻機能提升至 1.4nm 精度。  
- TSMC 決定可能影響 ASML 預計的 2027-2028 年大規模生產及 2030 年 600 億歐元收入目標。

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ASML Holding NV

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ASML Holding NV ADRhedged

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半導體 3 倍做多 - Direxion

台積電高管稱阿斯麥 3.5 億歐元的光刻設備價格過高，暫無購買計劃