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聯電 (UMC.US) 今日盤中下跌約 4.2%，主要原因在於英特爾的製程技術突破給成熟製程代工市場帶來競爭壓力，疊加盤前交易中股價已反映部分利空情緒，股價從盤前低點 18.400 美元小幅回升至 18.715 美元。公司 Q2 淨利潤同比大增 333% 至 13.26 億美元，EPS 達 0.53 美元，毛利率和淨利率均顯著提升，AI 驅動下新加坡潔淨室產能擴張和 2026 年資本支出上調進一步印證需求旺盛。儘管基本面強勁，股價當前仍低於 20 日均線 (19.175 美元) 和 60 日均線 (21.815 美元)，YTD 漲幅 138.5% 但距 52 周高點 28.96 美元仍有 35.4% 的差距，估值壓力與競爭擔憂並存。

聯電 (UMC.US) 今日盤中大幅下挫，截至 ET 10:04 報 18.24 美元，跌幅約 5%，主要因市場擔憂英特爾技術突破帶來的競爭壓力。盤前一度跌至 18.35 美元，短暫反彈後盤中單邊下行，最低觸及 18.24 美元，距 52 周高點 28.96 美元已回撤約 37%。儘管 Q2 淨利潤同比暴增 333% 至 13.26 億美元，淨利率達 61.5%，且營收同比增長 6.8% 至 21.6 億美元，但股價仍低於 MA20(20.32 美元) 和 MA60(21.59 美元)。不過，公司近期宣佈因 AI 需求擴大新加坡潔淨室產能，並上調 2026 年資本支出，顯示長期增長動能未減。

聯華電子（UMC.US）今日盤初下跌約 3.9%，因盤前一度跌 5.2% 至 19.159 美元，但盤中迅速回升至 19.82 美元，較前日收盤 20.63 美元仍跌約 3.9%。自 6 月 25 日觸及 52 周高點 28.96 美元后，股價已累計回調 31.6%，目前仍低於 20 日均線（20.94 美元）和 60 日均線（21.51 美元），顯示短期技術面偏弱。消息面上，英特爾技術突破引發競爭擔憂，但公司 Q2 淨利潤同比暴增 333% 至 13.26 億美元，淨利率達 61.5%，且因 AI 需求擴大新加坡潔淨室產能，2026 年資本支出上調，對基本面構成支撐。不過，YTD 漲幅仍高達 152.7%，PE 18.7 倍，估值處於歷史高位。

聯電 (UMC.US) 今日盤前一度衝高至 20.30 美元，隨後回落，開盤報 19.635 美元，跌幅約 5.1%，主要受前一日中國 DUV 光刻機交付消息引發的芯片板塊拋售延續影響。公司 Q2 淨利潤同比大增 333% 至 13.26 億美元，EPS 達 0.5288 美元，淨利率 61.48%，但營收同比僅增 6.78% 至 21.57 億美元，增長斜率放緩引發市場對盈利可持續性的擔憂。當前股價 19.64 美元較 52 周高點 28.96 美元回調 32.18%，低於 MA20(21.13 美元) 和 MA60(21.41 美元)，YTD 漲幅仍達 150.51%。不過公司近期宣佈擴大新加坡潔淨室產能以應對 AI 需求，並上調 2026 年資本支出，顯示長期增長動能。

聯電（UMC.US）8 月 3 日盤前大幅走低，截至 ET 09:30 盤中初段報 17.69 美元，較前收 19.03 美元跌約 7.1%，日內波動區間 17.40-18.75 美元。核心導火索是中國 DUV 光刻機交付消息加劇芯片板塊拋售，此前 Q2 業績雖超預期（淨利潤同比增 333% 至 13.26 億美元，淨利率躍升至 61.5%），但市場仍擔憂長期競爭壓力。當前股價較 52 周高點 28.96 美元回撤 34.3%，且低於 MA20（21.29 美元）和 MA60（21.32 美元），儘管 YTD 仍漲 142.7%，短期技術面承壓。不過，Wedbush 認為產能利用率提升有望推動利潤率超預期，Q2 財報顯示營業利潤同比增 25.96% 至 4.68 億美元。