
据报道,中国的 SiCarrier 公司利用自对准四重曝光(SAQP)技术,有望在 5 纳米 DUV 光刻领域取得突破...
https://t.co/PkhgHbUQgA#中国半导体 $阿斯麦(ASML.US)来源:芯片与晶圆
本文版权归属原作者/机构所有。
当前内容仅代表作者观点,与本平台立场无关。内容仅供投资者参考,亦不构成任何投资建议。如对本平台提供的内容服务有任何疑问或建议,请联系我们。

据报道,中国的 SiCarrier 公司利用自对准四重曝光(SAQP)技术,有望在 5 纳米 DUV 光刻领域取得突破...
https://t.co/PkhgHbUQgA#中国半导体 $阿斯麦(ASML.US)来源:芯片与晶圆
本文版权归属原作者/机构所有。
当前内容仅代表作者观点,与本平台立场无关。内容仅供投资者参考,亦不构成任何投资建议。如对本平台提供的内容服务有任何疑问或建议,请联系我们。