回复：$阿斯麦(ASML.US) - 重大新闻
各公司都在采用多重曝光技术，以推迟采用昂贵的高数值孔径极紫外光刻设备美光科技高级掩模技术总监 Ezequiel Russell：
👉我们过去用于延长浸没式光刻的技术...现在都被应用到了极紫外光刻上👉据我所知，目前所有采用极紫外光刻进行大规模生产的制程节点，无论是存储还是逻辑芯片，都在使用单次曝光极紫外光刻。但每家公司的研发部门，无论是逻辑还是存储领域，都在为下一个制程节点开发某种形式的极紫外多重曝光技术👉对于大多数应用场景而言，高数值孔径设备在成本上很难与多重曝光极紫外技术竞争。来源：芯片与晶圆
本文版权归属原作者/机构所有。
当前内容仅代表作者观点，与本平台立场无关。内容仅供投资者参考，亦不构成任何投资建议。如对本平台提供的内容服务有任何疑问或建议，请联系我们。
发表你的评论
暂无评论