台积电继续评估何时采用 ASML 最先进的光刻设备——高数值孔径极紫外光刻机（High-NA EUV），因其价格昂贵，高达 4 亿美元。路透社报道称，但不会在 A14（1.4 纳米）节点使用，因为 “我们的技术团队继续寻找方法，通过利用当前（低数值孔径极紫外光刻机）的扩展优势来延长其使用寿命，” 台积电高级副总裁 Kevin Zhang 表示。$台积电(TSM.US) $阿斯麦(ASML.US) $英特尔(INTC.US) #半导体

来源：Dan Nystedt