
據報道,中國的 SiCarrier 公司利用自對準四重曝光(SAQP)技術,有望在 5 納米 DUV 光刻領域取得突破...
https://t.co/PkhgHbUQgA#中國半導體 $阿斯麥(ASML.US)來源:芯片與晶圓
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