回覆：$阿斯麥(ASML.US) - 重大新聞
各公司都在採用多重曝光技術，以推遲採用昂貴的高數值孔徑極紫外光刻設備美光科技高級掩模技術總監 Ezequiel Russell：
👉我們過去用於延長浸沒式光刻的技術...現在都被應用到了極紫外光刻上👉據我所知，目前所有采用極紫外光刻進行大規模生產的製程節點，無論是存儲還是邏輯芯片，都在使用單次曝光極紫外光刻。但每家公司的研發部門，無論是邏輯還是存儲領域，都在為下一個製程節點開發某種形式的極紫外多重曝光技術👉對於大多數應用場景而言，高數值孔徑設備在成本上很難與多重曝光極紫外技術競爭。來源：芯片與晶圓
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