台積電繼續評估何時採用 ASML 最先進的光刻設備——高數值孔徑極紫外光刻機（High-NA EUV），因其價格昂貴，高達 4 億美元。路透社報道稱，但不會在 A14（1.4 納米）節點使用，因為 “我們的技術團隊繼續尋找方法，通過利用當前（低數值孔徑極紫外光刻機）的擴展優勢來延長其使用壽命，” 台積電高級副總裁 Kevin Zhang 表示。$台積電(TSM.US) $阿斯麥(ASML.US) $英特爾(INTC.US) #半導體

來源：Dan Nystedt