據媒體報道，SK 海力士將在韓國龍仁半導體園區投資 600 萬億韓元（約合 4070 億美元），較原計劃的 120 萬億韓元（四座晶圓廠各 30 萬億韓元）大幅增加。擴建更大規模的晶圓廠和昂貴的生產線設備是調整計劃的關鍵原因——目前在建的首座晶圓廠潔淨室面積已擴大超 50%。更大的潔淨室可容納更多 ASML 極紫外光刻機等生產設備，但成本也更高。SK 海力士認為擴產對維持其在 AI 存儲芯片領域的領先地位至關重要。其月 DRAM 產能為 45 萬片 12 英寸晶圓，而競爭對手三星電子為 65 萬片。$HXSCL #SKhynix $阿斯麥(ASML.US) $東京電子(ADR)(TOELY.US) $應用材料(AMAT.US) $科磊(KLAC.US) $拉姆研究(LRCX.US) $美光科技(MU.US) $SSNLF #半導體

來源：Dan Nystedt