中國領先的芯片製造商中芯國際在其最新生產工藝上取得了 5 納米技術的進展，但行業研究機構 TechInsights 表示，"其規模仍顯著小於台積電和三星提供的領先 5 納米節點"，該結論基於對華為麒麟 9030 智能手機芯片的拆解。報告確認這一生產工藝確實有所改進，稱中芯國際的 N+3 工藝相比其 N+2（7 納米）工藝"顯示出顯著的密度提升"。（注："浸沒式光刻之父"林本堅在 2021 年曾表示，中芯國際能夠利用現有設備實現 5 納米芯片生產，無需極紫外光刻設備。）$台積電(TSM.US) $英特爾(INTC.US) $SSNLF

來源：Dan Nystedt