阿斯麥 ASML（紀要）：致力於提升設備效率，而非設備數量
阿斯麥（ASML）於北京時間 2025 年 7 月 16 日下午的美股盤前發佈了 2025 年第二季度財報（截止 2025 年 6 月），要點如下：
以下是 ASML2025 年二季度的財報電話會紀要，財報解讀請移步《阿斯麥 ASML：火熱的英偉達，“暖不熱” 清冷的光刻機？》
一、$阿斯麥(ASML.US) 財報核心信息回顧
1. 第二季度業績
收入情況：總淨銷售額為 77 億歐元，處於公司預期的上限，這主要歸功於 1 個高 NA 系統的收入確認以及安裝升級服務類業務。系統淨銷售額為 56 億歐元，其中包括 27 億歐元的 EUV 銷售額和 29 億歐元的非 EUV 銷售額。系統淨銷售額中，邏輯芯片佔 69%，其餘 31% 來自存儲。本季度服務業務收入（已安裝基礎管理銷售額）高於預期，達到 21 億歐元。
訂單：第二季度系統淨訂單額為 55 億歐元，其中 EUV 光刻機訂單額為 23 億歐元，非 EUV 光刻機訂單額為 32 億歐元。本季度系統淨訂單中，邏輯芯片訂單額佔 84%，存儲訂單額佔 16%。二季度末的積壓訂單約為 330 億歐元。除了系統銷售和訂單額的常規變化外，這還反映了第二季度因客户響應 2024 年管控措施而進行的 14 億歐元調整。
利潤情況：本季度毛利率高於預期，達到 53.7%，這得益於安裝升級服務類業務的增長、一次性項目導致的成本降低以及關税影響低於預期，但這些影響被高 NA 系統收入確認的稀釋效應部分抵消。運營支出符合預期，其中研發支出為 12 億歐元，銷售、一般及行政費用（SG&A）為 2.99 億歐元。第二季度的有效税率為 18.1%。我們預計2025 年全年的年化有效税率仍將在 17% 左右。第二季度淨利潤為 23 億歐元，佔總淨銷售額的 29.8%。每股收益為 5.90 歐元
資產負債表：現金、現金等價物和短期投資總額為 72 億歐元。
股東回報情況： 2024 年的總股息為每股普通股 6.40 歐元。每股普通股末期股息為 1.84 歐元。2025 年的第一季度中期股息為每股普通股 1.60 歐元，將於 2025 年 8 月 6 日支付。2025 年第二季度，回購總計約 14 億歐元的股票，使得股票回購總額在 2025 年第二季度末達到 58 億歐元。
2.指引
25 年收入指引：預計 2025 年全年收入將增長約 15%。中國區業務而言，預計今年的收入將佔總收入的 25% 以上 。公司預計先進客户的 EUV 產能將比 2024 年增加約 30%，公司 EUV 整體收入也將同比增長約 30%；深紫外（DUV）以及計量與檢測系統的合計收入預計將與 2024 年持平；安裝基數管理收入將增長 20% 以上。
25Q3 指引：淨銷售額將在 74 億歐元至 79 億歐元之間。服務業務收入約為 20 億歐元。毛利率將在 50% 至 52% 之間。研發費用約為 12 億歐元，銷售、一般及行政費用（SG&A）預計約為 3.1 億歐元。
毛利率：預計 2025 年毛利率約為 52%。
3. 市場形勢
人工智能是存儲和邏輯芯片增長的關鍵驅動力。
EUV 在滿足 AI 驅動的前沿技術產能中作用日益關鍵
預計需求將更多地集中在下半年。人工智能推動邏輯與存儲器需求增長，EUV 層數提升帶來利好，但客户面臨宏觀與地緣政治不確定性挑戰。
二、ASML 財報電話會詳細內容
2.1 高管陳述核心信息
1. 技術進展：
1) 低 NA 平台（以 NXE:3800E 為例）：NXE-3800E 取得了顯著進展，最終配置達到每小時 220 片晶圓。有望在 2025 年之前完成所有已安裝設備的升級。全新 NXE-3800E 現已全部按完整規格出貨。在最新 DRAM 節點上，客户可用單次 EUV 曝光取代複雜的多重 DUV 工藝，從而實現降本、縮短週期並提升良率。
2) 高 NA 平台：與客户協作推進 EXE:5000 技術，並已交付首台 EXE:5200B，該系統每小時至少可處理 175 片晶圓，相比於 EXE:5000 的產能提升約 60%；同時，高 NA 平台助力客户從多重曝光 DUV 過渡至單次高 NA EUV，實現降本與製圖優化。
3) 公司預計終端市場將更多轉向先進邏輯與 DRAM，推動對高端光刻系統的需求；低 NA EUV 與高 NA 的推進將降低技術成本，並促使多圖案層向單次 EUV 曝光轉換，進一步提升 EUV 層數使用。
2. 關税的影響：關税對公司業績的直接影響來自美國產品進出口，但公司正與客户和供應商合作將其降至最低；而間接影響則更復雜，取決於關税對全球經濟與市場需求的潛在衝擊。
3. 市場動態：對於邏輯芯片，我們預計 2025 年的系統收入將較 2024 年有所增長，因為客户正在增加已授權節點的產能。對於存儲芯片，我們預計 2025 年的系統收入將保持強勁，因為我們的客户正在向下一代節點過渡，以支持最新一代 HBM 和 DDR5 產品。
2025 年先進客户 EUV 產能將同比增長約 30%， NXE:3800E 更高的生產率意味着，可以在系統數量持平下，以更高的平均售價與毛利率滿足增加的產能需求。
4. 毛利率預期：預計下半年的毛利率將低於上半年，主因是下半年大量高 NA 系統的收入確認對利潤率產生了稀釋作用。較低的升級收入和一些一次性支出對上半年的毛利率產生了積極貢獻，但我們預計下半年不會產生這些積極貢獻。
5. 未來預期：2030 年的收入機會將在 440 億歐元至 600 億歐元之間，毛利率預計在 56% 至 60% 之間。
2.2 Q&A 問答
Q：雖然 EUV 產能仍然強勁，但有什麼變化嗎？為什麼會比人們預期的略低？
A：我們預計今年 EUV 整體增長約為 30%，而其中的差異主要在於安裝基礎業務，即將之前已交付但配置較低的設備升級到每小時 220 片晶圓的完整規格。該部分收入歸類為升級服務類業務，而非系統銷售。從過去 40% 增長降至 30% 這 10% 的差異，其實體現在安裝基礎業務中。此外，即使客户採購的 EUV 數量偏低，但由於 3800 系統具有更高的平均售價與毛利率，整體收入和盈利能力依然受益。
至於 DUV，中國市場份額超出預期，從原先預計的略高於 20% 現在提升至 25% 以上，顯示DUV 業務正在向中國市場傾斜。
Q：客户如果不採用高 NA 而繼續使用低 NA 多重曝光，對 ASML 來説是否真的在收入上是中性的？因為高 NA 為客户帶來的價值更高，是否意味着 ASML 可以定更高的價格？
A：是的，只要提升生產效率、套刻和成像性能，就能提升工具價值並相應提價，高 NA 也是如此；其簡化流程、縮短週期將助力客户推進到更先進節點，帶動光刻強度提升，延續 EUV 發展路徑的成功經驗。
Q：為何認為取消對中國 AI 芯片出口禁令是好事？這是否意味着您預期中國市場或新興市場在生態系統中的作用將提升？
A：儘管放寬對中國 AI 芯片出口的禁令可能不會直接大幅提升 ASML 的出貨量，但從更宏觀層面看，這有利於全球半導體生態系統的健康發展與開放，是一項積極舉措。
Q：一季度曾説過，中國區營收佔比高於 25%，而之前的預期佔比是 20%。您是否認為中國 DUV 業務的加速增長，是出於客户對明年可能面臨進一步出口限制的提前備貨考量？
A：我們對中國市場 DUV 業務的預期仍維持在全年營收佔比超過 25%，沒有實質性變化；目前需求依然強勁，未見客户為規避未來限制而提前採購的跡象。
Q 高 NA 在 1.4 納米工藝節點上的客户情況怎麼樣？
A：當前客户主要處於驗證階段，目標是為 2026–2027 年量產做準備；隨着使用經驗積累與數據支持，客户對設備認可度在提升，高 NA 設備進展良好，但仍需數月驗證，具體訂單情況因客户要求暫不披露。
Q：過去 90 天內，受地緣政治與出口政策不確定性影響，客户對未來資本支出持更謹慎態度，討論頻繁但結果未明，導致 ASML 的可見度下降，對市場預期更趨保守。關於 2026 年的評論。我想更好地瞭解過去 90 天裏，您在與客户溝通中發生了什麼變化
A：由於美國關税政策尚未明朗，客户在評估在美投資時面臨高度不確定性，加上關税可能對宏觀經濟產生間接影響，因此客户普遍延後決策、態度更加謹慎。
Q：請問四季度毛利率環比下降的主要原因是什麼？是否僅因產品組合變化？
A：下半年高 NA 系統出貨將增加，但升級服務可能有所下降，加上上半年一次性成本收益無法持續，導致下半年毛利率較低。
Q：請問從訂單量來看，第三季度需要達到怎樣的訂單，才能確保 2026 年收入實現增長？
A：訂單量波動大且不能準確反映業務勢頭，因此不會提供 2026 年業績指引，也不打算間接透露相關預期。
Q：第二季度 23 億歐元的 EUV 訂單中，邏輯芯片和 DRAM 的份額如何分配？以及今年和明年約 30 億美元的深紫外（DUV）訂單的出貨量分別是多少？
A：EUV 訂單涵蓋多客户，邏輯芯片佔比更大；DUV 訂單接近滿額，預計全年訂單已基本滿單，在填補今年需求缺口後，剩餘訂單將用在 2026 年。
Q：EUV 收入預期從 50% 降至 30%，設備銷售方面發生了什麼變化？是邏輯領域減少風險導致的嗎，還是有其他原因？
A：我們年初預期的 EUV 增長率是 40%，非 50%；設備銷售向升級業務轉變，導致系統業務下降但升級業務增長，因此整體增長率維持在 40% 左右。主要因 NXE:3600D 型相較 NXE:3800E 佔主導，且單台工具生產效率提升，儘管數量減少，仍實現約 30% 的產能增長。
Q：您為何認為過去 90 天內不確定性加劇？是因關税問題、客户建設計劃變化（如中國市場或北美產能調整），還是主要源自宏觀經濟視角？
A：過去三個月內，關税談判的不確定性加劇，客户對最終結果及其對 GDP 和需求的影響感到更為疑慮，因此在決策上更為謹慎，普遍採取觀望態度。
Q：30% 的效率提升支持客户實現 30% 的產能增長，未來設備銷售是否仍依賴客户的產能擴張意願？
A：ASML 關注的是客户的總晶圓產能需求，而非設備數量；通過提升設備效率滿足產能增長，減少所需設備台數，從而提高毛利率和客户價值。
Q：雖然 2026 年存在不確定性，客户仍在為增長做準備，但因關税談判未明朗，行業投資是否可能整體放緩？
A：客户基本面依然強勁，特別是人工智能領域；地緣政治和關税帶來的不確定性導致客户更謹慎，解決這些問題對恢復客户信心和穩定性至關重要，且希望這只是短期影響。
Q：能否詳細説明一下光刻密度受益於高端存儲器，以及這對光刻密度有何幫助？這種趨勢會持續到明年？ASML 專注於利用通用平台。能否介紹一下這方面的最新進展
A：EUV 在 DRAM 客户中採用率顯著提升，簡化工藝流程並加快性能達成，預計這個趨勢在未來 3-5 個節點都將持續。ASML 計劃持續提升當前 EUV 平台的生產力和套刻精度，直至 20 年代末。當發現繼續在當前平台上提升變得愈發困難時，下一代平台就會投入使用，這樣公司就能在未來 10 到 15 年裏延續這一技術升級進程。
Q：存儲領域本季度收入和訂單略降，但 HBM 等 AI 驅動的存儲需求趨勢如何？預計這些需求何時會顯現在存儲訂單中？
A：存儲芯片業務的收入，2025 基本上能達到 2024 年水平的七成左右。本季度存儲類訂單佔比降至約 16%，較前幾個季度尤其是第一季度的 40% 明顯下降，訂單量本身波動較大且不穩定。
Q：鑑於今年中國市場銷售超出預期，您認為這將如何影響明年中國市場的收入預期？當前限制變化是否改變了您的判斷？
A：ASML 不對 2026 年做具體預測，但中國市場需求長期保持健康，未見急劇下降或過度擴張現象，公司準備支持該市場的持續發展。
Q：請解釋積壓訂單中的訂單調整情況：涉及多少比例的 EUV 訂單和 DUV 訂單？這些調整是針對多個客户還是個別客户？能否提供更多細節？
A：積壓訂單中約 14 億歐元的訂單因去年中國出口限制相關客户調整而取消，調整的訂單絕大部分都是 DUV 業務。
Q：撇開關税影響，您是否同意未來兩個季度再獲得累計 60 億歐元訂單足以確保 2026 年實現平穩增長？以及超過該水平的訂單是否將推動更高增長？
A：ASML 不會對訂單做深入討論，且訂單構成和年份關聯存在諸多假設。
Q：您是否認同邏輯終端市場光刻密度在 2030 年前不會顯著提升，直到高數值孔徑 EUV 技術普及？在此之前是否有可能出現導致 1.4nm 節點光刻密度提升的過渡技術？
A：在 2 納米節點 EUV 層數基本穩定後，隨着新架構普及，光刻強度將在 1.4 納米及以後節點有所提升並增加 EUV 層數；邏輯客户對未來更多 EUV 層需求樂觀，創新驅動下市場將持續競爭和進步。
Q：請解釋第三季度至第四季度安裝基數管理收入環比下降約 4 億歐元的原因，尤其是與 3800 設備相關的貢獻，以及 DUV 出貨量對收入的影響。
A：安裝基數管理業務在上半年特別強勁，預計下半年略有下降；但隨着更多的設備過保，服務收入將持續增長，整體變化主要為正常波動，數字四捨五入可能導致看起來波動較大。
Q：能否用簡單語言説明高 NA 工具每小時 175 片晶圓的成就，客户在確認量產和稀釋度前需完成哪些關鍵里程碑？該項目是否已達到盈虧平衡點？
A：高 NA 技術目前處於第一階段，客户用 EXE:5000 設備進行驗證，成像與疊加效果良好；EXE:5200B 設備出貨標誌進入第二階段，即驗證設備在大規模生產中的成熟度與可重複性，今年和明年，公司會在這方面投入大量精力。。
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