據報道，台積電正在開發自己的光罩保護膜，以便在 A14 和 A10 先進芯片製造工藝中繼續使用 EUV 光刻機，而不是購買 ASML 更昂貴的高數值孔徑 EUV 設備。1/2 $台積電(TSM.US) $阿斯麥(ASML.US) #半導體
來源：Dan Nystedt
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