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博覽群書對 ASML 財報看法

ASML 的業績沒有狂飆,核心原因在於“自身產能受限”與“下游 Fab(晶圓廠)建設滯後”的雙重物理枷鎖。
以下是核心邏輯拆解:
1. 需求其實已經 “爆單”,但受限於 ASML 極長的交付週期
看 ASML 的景氣度,不能只看當期營收(Revenue),更要看在手訂單(Backlog)。
光刻機(尤其是 EUV)是人類目前製造的最複雜的機械設備,其供應鏈受制於極高的物理壁壘(比如蔡司的極紫外鏡頭),根本無法像組裝手機那樣迅速擴產。目前先進 EUV 設備的交貨週期(Lead Time)長達 12 到 18 個月。
近期 SK 海力士等巨頭砸下近百億美元的 EUV 超級大單,但交貨期直接排到了 2027 年。因此,ASML 給出的 2026 年營收指引(340 億-390 億歐元),反映的是它的產能,而不是下游增長的需求。AI 的強勁需求目前全鎖在歷史新高的訂單簿裏,還沒到確認收入的時候。
2. 下游 Fab 建廠進度拖後腿,導致 “有機器沒處放”
光刻機這種動輒兩三億歐元的精密設備,只有在下游晶圓廠的潔淨室徹底完工、設備 “搬入(Move-in)” 並調試後,ASML 才能確認絕大部分營收。
但現實是,下游晶圓廠的物理建設進度嚴重滯後:
- 台積電 在美國亞利桑那州的工廠、英特爾 在歐美的擴產計劃,均不同程度受到了當地工會、熟練建築工人短缺、環保審批以及補貼落地慢的拖累。
- 物理建築的延緩,直接導致了 ASML 設備交付節點的後推,財務上的營收確認自然就被延後了。
3. 晶圓廠資本開支(CapEx)的 “精打細算”
除了建廠慢,晶圓廠在引入下一代機器時也更加謹慎。
單台造價超過 3.5 億歐元的 High-NA EUV(高數值孔徑極紫外光刻機)實在太貴了。面對 AI 芯片的旺盛需求,台積電等代工巨頭目前的優選策略是:靠先進封裝(如 CoWoS)來極限榨乾現有標準 EUV 的產能,而不是立刻激進地進行設備換代。晶圓廠在資本開支上的這種 “過渡策略”,也使得 ASML 對 High-NA EUV 的銷售指引相對穩健,沒有出現爆發式躍升。
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