$台积电(TSM.US)
背景:台湾半导体制造公司与阿斯麦(ASML)宣布合作,引领半导体行业向更大尺寸的极紫外(EUV)光刻掩模版转型。虽然目前仍采用 6 英寸掩模版进行 High NA EUV 量产,但过渡到 12 英寸大尺寸掩模版预计将进一步提高晶圆厂生产力、降低芯片制造成本并消除拼接限制,从而惠及整个半导体行业。这将使先进芯片制造商能够充分利用 High NA EUV 的优势,使未来几代尖端芯片更具成本效益。
我的交易:对台湾市场最强股票之一进行定投。与垄断巨头 ASML 的合作进一步巩固了 TSM 在该领域的地位。
要点:台积电计划从 2030 年开始在先进制程的高产量制造中使用 ASML 的 High NA 技术。随着技术节点的推进,台积电预计需要 High NA EUV 的层数将增加,这主要是由 AI 应用所需的日益复杂的晶体管架构驱动的。@船长的宝藏


