$台積電(TSM.US)
背景:台灣半導體制造公司與阿斯麥(ASML)宣佈合作,引領半導體行業向更大尺寸的極紫外(EUV)光刻掩模版轉型。雖然目前仍採用 6 英寸掩模版進行 High NA EUV 量產,但過渡到 12 英寸大尺寸掩模版預計將進一步提高晶圓廠生產力、降低芯片製造成本並消除拼接限制,從而惠及整個半導體行業。這將使先進芯片製造商能夠充分利用 High NA EUV 的優勢,使未來幾代尖端芯片更具成本效益。
我的交易:對台灣市場最強股票之一進行定投。與壟斷巨頭 ASML 的合作進一步鞏固了 TSM 在該領域的地位。
要點:台積電計劃從 2030 年開始在先進製程的高產量製造中使用 ASML 的 High NA 技術。隨着技術節點的推進,台積電預計需要 High NA EUV 的層數將增加,這主要是由 AI 應用所需的日益複雜的晶體管架構驅動的。@船长的宝藏


